特許
J-GLOBAL ID：200903073400827829
ビスフェノールAの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大谷 保
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-096701
公開番号（公開出願番号）：特開2003-286214
出願日： 2002年03月29日
公開日（公表日）： 2003年10月10日
要約：
【要約】【課題】 ビスフェノールAの製造方法において、反応混合物からビスフェノールAを取出す際に、ビスフェノールAとフェノールとの付加物を高純度で効率良く反応母液から回収する。【解決手段】 ビスフェノールAとフェノールとの付加物が結晶状態で含有するビスフェノールAのフェノールスラリー溶液(1)をフィルター濾過することにより、該フィルター上に結晶状態のビスフェノールAとフェノールとの付加物層を形成させ、洗浄後の付加物層をフェノール含有液に溶解後、晶析させることにより、ビスフェノールAとフェノールとの付加物が結晶状態で含有するビスフェノールAのフェノールスラリー溶液(2)を製造し、該スラリー溶液(2)を遠心分離させることにより結晶状態のビスフェノールAとフェノールとの付加物を分離する。
請求項（抜粋）：
酸触媒の存在下にフェノールとアセトンを反応させて得られるビスフェノールAのフェノール溶液からビスフェノールAとフェノールとの付加物を晶析させ、生成したスラリーの固液分離後、固体成分からフェノールを除去するビスフェノールAの製造方法において、ビスフェノールAとフェノールとの付加物が結晶状態で含有するビスフェノールAのフェノールスラリー溶液(1)をフィルター濾過することにより、該フィルター上に結晶状態のビスフェノールAとフェノールとの付加物層を形成させ、次いで該付加物層を洗浄液にて洗浄し、洗浄後の付加物層をフェノール含有液に溶解後、晶析させることにより、ビスフェノールAとフェノールとの付加物が結晶状態で含有するビスフェノールAのフェノールスラリー溶液(2)を製造し、該スラリー溶液(2)を遠心分離させることにより結晶状態のビスフェノールAとフェノールとの付加物を分離することを特徴とするビスフェノールAの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (6件)：
4H006AA02
, 4H006AD15
, 4H006BB14
, 4H006BC52
, 4H006FC52
, 4H006FE13
