特許
J-GLOBAL ID：200903073569552322

光干渉測定装置、光干渉測定方法、光学素子、及び露光装置

発明者：
青木 栄二

青木 栄二 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 藤元 亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-113974
公開番号（公開出願番号）：特開2005-300250
出願日： 2004年04月08日
公開日（公表日）： 2005年10月27日
要約：
【課題】 可干渉距離の短い光源を用いた場合においても高精度な波面計測を実現することのできる光干渉測定装置及び光干渉測定方法を提供すること。【解決手段】 この光干渉測定装置は、光源から発された光を計測光と参照光とに分割し、蛍石を含むレンズを有した被検光学系に計測光を導くとともに被検光学系を経由した計測光と参照光とを結合することにより被検光学系の透過波面を測定する光干渉測定装置であって、被検光学系内での透過波面測定位置を移動させる移動機構と、透過波面測定位置に応じて計測光の光路長又は参照光の光路長の少なくともいずれか一方を変更する光路長変更機構とを有する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
光源から発された光を計測光と参照光とに分割し、蛍石を含むレンズを有した被検光学系に前記計測光を導くとともに該被検光学系を経由した前記計測光と前記参照光とを結合することにより前記被検光学系の透過波面を測定する光干渉測定装置であって、 前記被検光学系内での前記透過波面測定位置を移動させる移動機構と、 前記透過波面測定位置に応じて前記計測光の光路長又は前記参照光の光路長の少なくともいずれか一方を変更する光路長変更機構とを有することを特徴とする光干渉測定装置。
IPC (5件)：
G01B9/02 ,  G01J9/02 ,  G01M11/02 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027
FI (5件)：
G01B9/02 ,  G01J9/02 ,  G01M11/02 B ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 516A
Fターム (19件)：
2F064AA09 ,  2F064BB03 ,  2F064CC05 ,  2F064EE02 ,  2F064EE04 ,  2F064FF02 ,  2F064GG12 ,  2F064GG15 ,  2F064GG22 ,  2F064GG66 ,  2F064HH03 ,  2F064HH08 ,  2F064JJ01 ,  2G086EE07 ,  2G086HH06 ,  5F046BA03 ,  5F046CA04 ,  5F046CB25 ,  5F046DA13
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 透過波面測定用干渉計
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-260788   出願人：オリンパス光学工業株式会社
審査官引用 (4件)
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