特許
J-GLOBAL ID：200903073656496315
光学系、特にマイクロリソグラフィの投影露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山川 政樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-556280
公開番号（公開出願番号）：特表2002-519843
出願日： 1999年06月18日
公開日（公表日）： 2002年07月02日
要約：
【要約】【課題】 光学系において不均一な温度分布により必然的に起こる結像ずれを単純な手段によって補正又は最小にすることができる光学系を提供すること。【解決手段】 特にスリット状視野又は回転対称形でない照明を有する光学系、特にマイクロリソグラフィの投影露光装置は、マウント部(2)に配設されている光学要素(1)、光学要素(1)に少なくとも光軸に対しほぼ垂直に作用する作動部材(3)とを有する。作動部材(3)は、ほぼ厚さの変化を伴わずに生じる曲がりを発生させるために回転対称形でなく且つ半径方向から外れた力及び/又はモーメントを光学要素(1)に対し作用するように発生する。
請求項（抜粋）：
特にスリット状視野又は回転対称形でない照明を有し、マウント部に配設されている光学要素、特にレンズ又はミラーと、光学要素及びマウント部のいずれか又は双方に作用する作動部材とを有する光学系、特にマイクロリソグラフィの投影露光装置において、作動部材(3)は、厚さの変化を伴わずに起こる曲がりを発生させるために、回転対称形ではなく且つ半径方向から外れた力及びモーメントのいずれか又は双方を光学要素(1)に対し発生させることを特徴とする光学系。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 7/22 H
, H01L 21/30 515 D
, H01L 21/30 516 A
5F046CB02
, 5F046CB12
, 5F046CB20
, 5F046CB25
, 5F046DA13
