特許
J-GLOBAL ID：200903073899436787
ハイドロキシアパタイトの製造方法及びハイドロキシアパタイト-蛋白質複合体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小越 勇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-225387
公開番号（公開出願番号）：特開2009-057234
出願日： 2007年08月31日
公開日（公表日）： 2009年03月19日
要約：
【課題】レーザー技術(低エネルギーレーザー光の照射)を利用して材料上に、アパタイト前駆体のパターンを効率良く形成させる技術を提供する。そして、照射条件の最適化と非接触なマスクの利用により、アパタイトパターンを直接ポリマーなどのソフトな材料上に簡便に作製できる技術を提供する。【解決手段】カルシウムイオンとリン酸イオンが存在する液相中に配置した基体表面に、1W/mm2未満のエネルギーのレーザー光を照射し、前記基体上にハイドロキシアパタイト生成核を析出させることを特徴とするハイドロキシアパタイトの製造方法。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
カルシウムイオンとリン酸イオンが存在する液相中に配置した基体表面に、1W/mm2未満のエネルギーのレーザー光を照射し、前記基体上にハイドロキシアパタイト前駆体を析出させることを特徴とするハイドロキシアパタイトの製造方法。
IPC (1件)：
FI (3件)：
C01B25/32 Q
, C01B25/32 V
, C01B25/32 Z
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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