特許
J-GLOBAL ID：200903073979184827

フォトレジスト組成物

発明者：
畠山 潤

畠山 潤 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 奥山 尚男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-308497
公開番号（公開出願番号）：特開2001-125259
出願日： 1999年10月29日
公開日（公表日）： 2001年05月11日
要約：
【要約】【課題】 レジスト溶液中のマイクロバブルの問題を解決する。【解決手段】 パーフルオロアルキルエーテル基を疎水基としてもつ界面活性剤を添加することによって、レベリング性向上とマイクロバブル発生の防止を同時に達成できる。また、界面活性剤以外に、(A1)フォトレジスト用ベースポリマー、(B)有機溶剤、(C)酸発生剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、および(A2)フォトレジスト用ベースポリマー、(B)有機溶剤、(C)酸発生剤、(D)架橋剤を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物を提供する。さらに、ポジ型フォトレジスト組成物は、(E)塩基性化合物、(F)溶解阻止剤を含有することができ、ネガ型フォトレジスト組成物は、(E)塩基性化合物を含有することができる。
請求項（抜粋）：
パーフルオロアルキルエーテル基を疎水性基として含む界面活性剤を含有することを特徴とするフォトレジスト組成物。
IPC (8件)：
G03F 7/004 504 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  C08G 65/00 ,  C08K 5/00 ,  C08L 71/00 ,  C08L101/00 ,  H01L 21/027
FI (8件)：
G03F 7/004 504 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 A ,  C08G 65/00 ,  C08K 5/00 ,  C08L 71/00 Y ,  C08L101/00 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (64件)：
2H025AA11 ,  2H025AA18 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB17 ,  2H025CB29 ,  2H025CB41 ,  2H025CC03 ,  2H025CC04 ,  2H025CC17 ,  2H025EA05 ,  4J002AA001 ,  4J002BC121 ,  4J002BG051 ,  4J002BK001 ,  4J002CH052 ,  4J002EB007 ,  4J002EC026 ,  4J002ED026 ,  4J002EE036 ,  4J002EH036 ,  4J002EH149 ,  4J002EH156 ,  4J002EJ028 ,  4J002EL028 ,  4J002EL069 ,  4J002EL089 ,  4J002EN029 ,  4J002EN039 ,  4J002EN069 ,  4J002EP019 ,  4J002EQ017 ,  4J002ES009 ,  4J002ES017 ,  4J002ET018 ,  4J002EU009 ,  4J002EU029 ,  4J002EU049 ,  4J002EU059 ,  4J002EU079 ,  4J002EU119 ,  4J002EU139 ,  4J002EU149 ,  4J002EU188 ,  4J002EU229 ,  4J002EV237 ,  4J002EV247 ,  4J002EV297 ,  4J002EV329 ,  4J002FD148 ,  4J002FD206 ,  4J002FD207 ,  4J002FD209 ,  4J002FD312 ,  4J002GP03 ,  4J005AA00 ,  4J005BD05 ,  4J005BD06
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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