特許
J-GLOBAL ID:200903074142499788

プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西川 惠清 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-154490
公開番号(公開出願番号):特開2002-353000
出願日: 2001年05月23日
公開日(公表日): 2002年12月06日
要約:
【要約】【課題】 安定したグロー状の放電を得ることができるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 互いに平行に対向配置される一対の電極2、3間に放電ガスを導入すると共に上記一対の電極2、3間に電圧を印加することにより大気圧近傍の圧力下でグロー状の放電を発生させる。上記一対の電極2、3間に被処理物4を導入することにより被処理物4にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置に関する。上記一対の電極2、3の断面を略角状に形成すると共に電極2、3の角部に曲率を設ける。上記一対の電極2、3の間に誘電体を設ける。上記一対の電極2、3にて構成される電極対70を、隣合う電極対70の間に隙間71を設けて複数個並べて配設する。隣合う電極対70の間の隙間71から対向配置される電極2、3間に放電ガスを導入することができる。
請求項(抜粋):
互いに平行に対向配置される一対の電極間に放電ガスを導入すると共に上記一対の電極間に電圧を印加することにより大気圧近傍の圧力下でグロー状の放電を発生させ、上記一対の電極間に被処理物を導入することにより被処理物にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置において、上記一対の電極の断面を略角状に形成すると共に電極の角部に曲率を設け、上記一対の電極の間に誘電体を設け、上記一対の電極にて構成される電極対を、隣合う電極対の間に隙間を設けて複数個並べて配設して成ることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (3件):
H05H 1/46 ,  B01J 19/08 ,  C22B 9/22
FI (3件):
H05H 1/46 M ,  B01J 19/08 E ,  C22B 9/22
Fターム (27件):
4G075AA22 ,  4G075AA30 ,  4G075AA42 ,  4G075BA06 ,  4G075BB10 ,  4G075BD14 ,  4G075CA16 ,  4G075CA57 ,  4G075DA02 ,  4G075EA05 ,  4G075EB01 ,  4G075EC21 ,  4G075ED04 ,  4G075ED11 ,  4G075ED13 ,  4G075EE02 ,  4G075EE04 ,  4G075FA20 ,  4G075FB02 ,  4G075FB04 ,  4G075FB06 ,  4G075FB12 ,  4G075FB20 ,  4G075FC15 ,  4K001FA12 ,  4K001GA19 ,  4K001GB12
引用特許:
審査官引用 (8件)
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