特許
J-GLOBAL ID：200903074202192571

レンズ系の特性決定のための方法およびマスク

発明者：
ウヴェ パウル シュレーダー

ウヴェ パウル シュレーダー について


出願人/特許権者：
インフィネオン テクノロジーズ アクチェンゲゼルシャフト

インフィネオン テクノロジーズ アクチェンゲゼルシャフト について


代理人 (3件)： 山本 秀策 ,  安村 高明 ,  森下 夏樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-417355
公開番号（公開出願番号）：特開2004-200691
出願日： 2003年12月15日
公開日（公表日）： 2004年07月15日
要約：
【課題】 基板上にマスク構造を結像する間にレンズの不具合によって生成される歪みの判定をさらに改善することが可能である方法を提示すること【解決手段】 構造およびこれに割り当てられた補助構造を備える構造配置を有するマスクが基板上に投射される。この構造は、露光デバイスの解像限界よりも大きい幅を有し、補助構造は、基板上に投射された幅を有し、この幅は、その解像限界よりも小さい。露光量は、露光不足が生じるように選択され、現像工程の後に、補助構造の少なくとも1つが、基板上に生成される。補助構造の結像された像構造は、顕微鏡を用いて検出される。構造に対する補助構造の配向に依存して、結像された構造の幅は、レンズ系に基づいて結像する間に作用するレンズ収差によって増幅または減衰され、この場合、減衰は、基板上に非形成を起こし得る。従って、検出は、用いられるレンズ系のレンズ収差の方向および強度に関する情報をもたらす。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
露光デバイスにおけるレンズ系を特性決定する方法であって、該露光デバイスは、構造を結像して達成可能な最小幅でマスク(5)から基板平面に転写するように構成された光源および該レンズ系を備え、該方法は、 該露光デバイス、および感光層を有する基板を提供する工程と、 少なくとも1つの実質的に不透明または半透明の構造(10)、および少なくとも1つの実質的に不透明または半透明の補助構造(20、21)が配置された透明な支持体を有するマスク(5)を提供する工程であって、 a)該構造(10)は、該露光デバイスによって該基板平面に達成可能な該最小幅よりも大きい、該基板平面に投射される第1の幅を有し、 b)該少なくとも1つの補助構造(20、21)は、各場合について、該露光デバイスによって該基板平面に達成可能な該最小幅よりも小さい、該基板平面に投射される第2の幅(22)を有し、 c)該基板平面に投射される、少なくとも1つの補助構造(20、21)と該構造(10)との間の距離(25)は、該露光源によって放射された光の達成可能な該最小幅よりも小さい、工程と、 マスク上の該構造(10)および該少なくとも1つの補助構造(20、21)を該基板上の該感光層に投射する目的で、該光源によって該マスク(5)を露光する工程と、 構造を該基板上に形成する目的で、該感光層を現像する工程と、 該基板上の少なくとも1つの該補助構造(20、21)を検出する工程であって、該補助構造は、像構造(121)として該基板上に結像される、工程と、 該検出結果に依存して、結果信号を出力する工程と を包含する、方法。
IPC (3件)：
H01L21/027 ,  G03F1/08 ,  G03F7/20
FI (4件)：
H01L21/30 516A ,  G03F1/08 D ,  G03F1/08 Z ,  G03F7/20 521
Fターム (8件)：
2H095BB02 ,  2H095BC09 ,  2H095BD09 ,  5F046BA03 ,  5F046CB24 ,  5F046DA13 ,  5F046DC03 ,  5F046DD01
引用特許：
審査官引用 (6件)
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