特許
J-GLOBAL ID：200903074383321688
反射防止膜の形成方法及び光学素子
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
高石 橘馬
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-074255
公開番号（公開出願番号）：特開2009-258711
出願日： 2009年03月25日
公開日（公表日）： 2009年11月05日
要約：
【課題】低屈折率及び優れた耐擦傷性を有するシリカエアロゲル膜を少なくとも有する反射防止膜を比較的短い時間で形成する方法、かかる反射防止膜を具備する光学素子を提供する。【解決手段】基材の表面に、アルコキシシランを塩基性触媒により加水分解・重合してアルカリ性ゾルを調製し、これに酸性触媒を添加してさらに加水分解・重合することにより第一の酸性ゾルを調製し、アルコキシシランを酸性触媒により加水分解・重合して第二の酸性ゾルを調製し、第一及び第二の酸性ゾルを混合し、得られた混合ゾルを基材に塗布し、乾燥し、得られたシリカエアロゲル膜をアルカリで処理する。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
基材の表面に、アルカリ処理したシリカエアロゲル膜からなる反射防止膜を形成する方法であって、溶媒中でアルコキシシランを塩基性触媒により加水分解・重合してアルカリ性ゾルを調製し、これに酸性触媒を添加してさらに加水分解・重合することにより第一の酸性ゾルを調製し、溶媒中でアルコキシシランを酸性触媒により加水分解・重合して第二の酸性ゾルを調製し、前記第一及び第二の酸性ゾルを混合し、得られた混合ゾルを前記基材に塗布し、乾燥し、得られたシリカエアロゲル膜をアルカリで処理することを特徴とする方法。
IPC (3件)：
G02B 1/11
, G02B 1/02
, G11B 7/135
G02B1/10 A
, G02B1/02
, G11B7/135 A
2K009AA02
, 2K009CC42
, 2K009DD02
, 2K009DD12
, 5D789AA32
, 5D789BA01
, 5D789JA43
, 5D789JA65
