特許

J-GLOBAL ID：200903074525086444

有機絶縁膜用材料及び有機絶縁膜

発明者： 長谷 陽子 ,  勝村 明文
出願人/特許権者： 住友ベークライト株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-195833
公開番号（公開出願番号）：特開2003-012802
出願日： 2001年06月28日
公開日（公表日）： 2003年01月15日
要約：

【要約】【課題】 電気特性、熱特性、機械特性および物理特性に優れ、特に誘電率が低く耐熱性に優れた有機絶縁膜用材料および有機絶縁膜を提供する。【解決手段】 ジアミノフェノール化合物と、嵩高い構造を有するジカルボン酸化合物とを反応させて得られる、一般式(7)で表されるポリベンゾオキサゾール樹脂前駆体を主構造とする有機絶縁膜用材料を、さらに脱水縮合反応させて有機絶縁膜とする。【化7】

請求項（抜粋）：

一般式(1)で表されるジアミノフェノール化合物と、一般式(4)で表されるジカルボン酸化合物と反応させることにより得られる、一般式(7)で表されるポリベンゾオキサゾール樹脂前駆体を主構造とする、重合体からなることを特徴とする有機絶縁膜用材料。【化1】式中、Xは式(2)より選ばれた1つである構造を示す。【化2】式中、X1は式(3)より選ばれる構造を示し、これらの構造中のベンゼン環上の水素原子のうち少なくとも1個は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、およびフェニル基からなる群から選ばれる、一価の有機基で置換されていてもよい。【化3】【化4】式中、Yは式(5)または式(6)より選ばれた1つである構造を示す。【化5】式(5)の構造上の水素原子のうち少なくとも1個は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、フェニル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、アダマンチル基からなる群から選ばれる、一価の有機基で置換されている。【化6】式(6)の構造中の水素原子のうち少なくとも1個は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、フェニル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基からなる群から選ばれる、一価の有機基で置換されていてもよい。【化7】式中、nは2〜1000の整数で、Xは式(2)より、Yは式(5)または式(6)よりそれぞれ選ばれた1つである構造を示す。

IPC (4件)：

C08G 73/22 ,  C08J 5/18 CFG ,  H01B 3/30 ,  C08L 79:04

FI (4件)：

C08G 73/22 ,  C08J 5/18 CFG ,  H01B 3/30 Z ,  C08L 79:04 B

Fターム (74件)：

4F071AA58 ,  4F071AF39 ,  4F071AG27 ,  4F071AH12 ,  4F071AH13 ,  4F071BA02 ,  4F071BB02 ,  4F071BC01 ,  4F071BC02 ,  4J043PA02 ,  4J043PA19 ,  4J043PC015 ,  4J043PC016 ,  4J043PC195 ,  4J043PC196 ,  4J043QB15 ,  4J043QB21 ,  4J043QB23 ,  4J043QB34 ,  4J043RA52 ,  4J043SA06 ,  4J043SA42 ,  4J043SA43 ,  4J043SA44 ,  4J043SA46 ,  4J043SA47 ,  4J043SA71 ,  4J043SB01 ,  4J043TA12 ,  4J043TA26 ,  4J043TA66 ,  4J043TA67 ,  4J043TA68 ,  4J043TA70 ,  4J043TA71 ,  4J043TA78 ,  4J043TB01 ,  4J043UA121 ,  4J043UA122 ,  4J043UA131 ,  4J043UA132 ,  4J043UA141 ,  4J043UA151 ,  4J043UA161 ,  4J043UA221 ,  4J043UA231 ,  4J043UB021 ,  4J043UB121 ,  4J043UB131 ,  4J043UB301 ,  4J043UB401 ,  4J043UB402 ,  4J043VA012 ,  4J043VA022 ,  4J043VA042 ,  4J043VA052 ,  4J043VA062 ,  4J043VA092 ,  4J043VA102 ,  4J043YA06 ,  4J043ZA12 ,  4J043ZA42 ,  4J043ZA46 ,  4J043ZB03 ,  4J043ZB11 ,  4J043ZB23 ,  4J043ZB50 ,  5G305AA07 ,  5G305AA11 ,  5G305AB10 ,  5G305AB24 ,  5G305BA09 ,  5G305BA18 ,  5G305CA32

引用特許：

審査官引用 (6件)

• 特開昭49-052293
  
• 芳香族ポリヒドロキシアミド
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-113150   出願人：旭化成工業株式会社
• ポリベンゾオキサゾール前駆体組成物および感光性樹脂前駆体組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-063077   出願人：東レ株式会社
• 感光性重合体組成物、レリーフパターンの製造法及び電子部品
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-109443   出願人：日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社
• ポリベンゾ・オキサゾール前駆体
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2001-565782   出願人：インフィネオンテクノロジーズアクチエンゲゼルシャフト
• 有機絶縁膜材料、有機絶縁膜及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-098731   出願人：住友ベークライト株式会社