基板処理方法及び基板処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：萩原康司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-095046
公開番号（公開出願番号）：特開2000-294532
出願日： 1999年04月01日
公開日（公表日）： 2000年10月20日
要約：

【要約】【課題】加熱手段の負担を軽減することができ,しかも処理液中のバクテリアの発生を防止できる基板処理方法及び基板処理装置を提供する。【解決手段】純水貯留タンク80内の純水を所定温度に加熱し,この純水と薬液とを洗浄槽60内に充填してウェハWを浸漬させることによりウェハWを薬液洗浄する方法であって,純水の加熱を停止している期間に,純水を純水貯留タンク80内に供給して貯留し,その後も小流量の純水を供給し続けて純水貯留タンク80内からオーバーフロー管82を通して純水を排出し,純水貯留タンク80内に貯留されている純水を常に流動させる。洗浄槽60に充填を開始する時刻よりも所定時間前に,純水の供給と排出を停止させ,カートリッジヒータ95を作動させる。

請求項（抜粋）：

処理液貯留タンク内に貯留した処理液を所定温度に加熱し,この加熱された処理液を前記処理液貯留タンク内から処理槽内に充填して該処理槽内にて処理液中に基板を浸漬させることにより基板を処理する方法であって,前記処理液貯留タンク内に処理液を貯留した後に,前記処理液貯留タンク内に処理液を供給すると共に,前記処理液貯留タンク内から処理液を排出し,前記処理液の供給と排出とを,前記処理液を所定温度に加熱するのを停止している期間に行うことを特徴とする,基板処理方法。

IPC (5件)：

H01L 21/304 648 , H01L 21/304 642 , B08B 3/08 , B08B 3/10 , H01L 21/306

FI (5件)：

H01L 21/304 648 G , H01L 21/304 642 A , B08B 3/08 A , B08B 3/10 Z , H01L 21/306 J

Fターム (19件)：

3B201AA02 , 3B201AA03 , 3B201AB44 , 3B201BB02 , 3B201BB03 , 3B201BB04 , 3B201BB82 , 3B201BB92 , 3B201BB93 , 3B201BB96 , 3B201CC01 , 3B201CC11 , 3B201CD42 , 3B201CD43 , 5F043BB27 , 5F043EE10 , 5F043EE12 , 5F043EE22 , 5F043EE28

引用特許：

出願人引用 (6件)

基板の浸漬処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-145939 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
特開平3-021349
基板洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-094985 出願人：ソニー株式会社

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審査官引用 (6件)

基板の浸漬処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-145939 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
特開平3-021349
基板洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-094985 出願人：ソニー株式会社

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