特許
J-GLOBAL ID：200903074989726993

ローカルアライメント機能を有する露光装置

発明者：
三好 久司

三好 久司 について

, 
猪俣 俊徳

猪俣 俊徳 について


出願人/特許権者：
ペンタックス株式会社

ペンタックス株式会社 について


代理人 (2件)： 松浦 孝 ,  小倉 洋樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-112694
公開番号（公開出願番号）：特開2005-300628
出願日： 2004年04月07日
公開日（公表日）： 2005年10月27日
要約：
【課題】 面付パターンを含む複数の描画領域を、被描画体に描画するための描画データに対し、被描画体の変形に伴って各描画領域に生じる変形について補正して描画する露光装置を提供する。【解決手段】 第1〜第4描画領域60〜63を描画すべき被描画体に開けられた第1〜第16アライメント穴40〜55の本来の位置と、被描画体38の変形によって実際に計測された第1〜第16実測アライメント穴位置80〜95とのずれに基づき描画データを補正する。すなわち、アライメント穴位置のずれから算出した、配置オフセットoff[G]、スケール比scx[G]、scy[G]および回転角θ[G](G=0、1、2、3)に基づき、第1〜第4描画領域60〜63に対応する描画データをそれぞれ補正して、補正描画データとする。さらに、描画領域毎のデータを統合して、被描画体38の表面を連続的に描画する。【選択図】 図6
請求項（抜粋）：
面付パターンを含む複数の描画領域の位置と輪郭とを定めるマークが表面に表された被描画体を描画する露光装置であって、 前記マークの実際の位置を検出するマーク位置検出手段と、 前記マークの実際の位置を示すマーク位置データを生成するマーク位置データ生成手段と、 前記面付パターンを前記被描画体の表面に露光させる描画手段と、 描画すべき前記面付パターンを示すベクタデータと前記マークの本来の位置を示すマーク位置情報とを含む描画データを記録する描画データ記録手段と、 前記描画データを読出す描画データ読出し手段と、 前記マーク位置データに基づき、実際の描画領域の位置と輪郭とを検出し、前記実際の描画領域の位置と輪郭とに基づいて、前記描画データを対応する描画領域ごとに補正して補正描画データとする描画データ補正手段とを備え、 前記補正描画データに基づいて前記面付パターンを前記被描画体に露光させて描画することを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
G03F9/00 ,  H05K3/00
FI (3件)：
G03F9/00 Z ,  H05K3/00 G ,  H05K3/00 H
Fターム (6件)：
2H097KA03 ,  2H097KA13 ,  2H097KA20 ,  2H097KA23 ,  2H097KA29 ,  2H097LA09
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 描画装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-298393   出願人：旭光学工業株式会社
審査官引用 (11件)
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