特許

J-GLOBAL ID：200903075124773330

水素分離膜およびその製造方法

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発明者： 飛世 正博 ,  山村 和広
出願人/特許権者： 日立金属株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-075742
公開番号（公開出願番号）：特開2008-229564
出願日： 2007年03月23日
公開日（公表日）： 2008年10月02日
要約：

【課題】 高価な貴金属であるPdを使うことなく水素分離能および耐水素脆性に優れ、かつ高温で長時間使用可能な水素分離膜を提供する。【解決手段】 原子%で組成式:Nb100-(α+β+γ)XαYβZγ(XはTi、Zr、Hfから選択される1種以上の元素、YはNi、Co、Cr、Feから選択される1種以上の元素、ZはTa、V,Al、Mnから選択される1種以上の元素であり10≦α≦60、10≦β≦50、0≦γ≦5、α+β+γ≦80、不可避不純物を含む)で表される合金溶湯をロール冷却により薄帯形状とし、デンドライト相もしくはNbを主成分とする初晶の平均結晶粒径(dc)が10μm以下の結晶組織を持つ水素分離膜とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

原子%で組成式:Nb100-(α+β+γ)XαYβZγ(XはTi、Zr、Hfから選択される1種以上の元素、YはNi、Co、Cr、Feから選択される1種以上の元素、ZはTa、V,Al、Mnから選択される1種以上の元素であり10≦α≦60、10≦β≦50、0≦γ≦5、α+β+γ≦80、不可避不純物を含む)で表される複合相からなる水素分離膜であって、デンドライト組織を有することを特徴とする水素分離膜。

IPC (7件)：

B01D 71/02 ,  C01B 3/56 ,  C22C 27/02 ,  C22C 14/00 ,  C22F 1/18 ,  B22D 11/06 ,  B22D 11/00

FI (8件)：

B01D71/02 500 ,  C01B3/56 Z ,  C22C27/02 102Z ,  C22C14/00 Z ,  C22F1/18 F ,  C22F1/18 H ,  B22D11/06 360A ,  B22D11/00 D

Fターム (21件)：

4D006GA41 ,  4D006MA03 ,  4D006MA30 ,  4D006MA31 ,  4D006MB04 ,  4D006MC02X ,  4D006NA21 ,  4D006NA25 ,  4D006NA62 ,  4D006PA01 ,  4D006PB18 ,  4D006PB66 ,  4D006PC80 ,  4E004DB01 ,  4E004NB07 ,  4E004NC06 ,  4G140FC01 ,  4G140FE01 ,  5H027AA02 ,  5H027BA16 ,  5H027DD05

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 水素分離材料及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-358431   出願人：住友金属鉱山株式会社
• 水素分離膜及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-045444   出願人：福田金属箔粉工業株式会社, 井上明久
• すぐれた高温非晶質安定性を有する水素分離透過膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-336217   出願人：三菱マテリアル株式会社, 独立行政法人産業技術総合研究所, 井上明久
• 水素透過膜用合金
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-221986   出願人：石福金属興業株式会社, 東京瓦斯株式会社