Co-Cr-Pt-B系ターゲットおよび磁気記録媒体

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-260372
公開番号（公開出願番号）：特開2002-069623
出願日： 2000年08月30日
公開日（公表日）： 2002年03月08日
要約：

【要約】【課題】従来の鋳造ターゲットは結晶が粗大かつ不均一であり、磁性膜の保磁力や角型比といった磁気特性にばらつきが生じる原因となっていた。【解決手段】ホウ化物で形成されているネットワークによって分割されるセルの平均径を200μm以下とすることにより、微細かつ均一な組織を有するCo-Cr-Pt-B系ターゲットとすることができる。

請求項（抜粋）：

ホウ化物で形成されているネットワークによって分割されるセルの平均径が200μm以下であることを特徴とするCo-Cr-Pt-B系ターゲット。

IPC (5件)：

C23C 14/34 , C22C 19/07 , G11B 5/64 , G11B 5/851 , H01F 10/16

FI (5件)：

C23C 14/34 A , C22C 19/07 C , G11B 5/64 , G11B 5/851 , H01F 10/16

Fターム (21件)：

4K029AA02 , 4K029AA24 , 4K029BA06 , 4K029BA07 , 4K029BA13 , 4K029BA21 , 4K029BA33 , 4K029BD11 , 4K029DC04 , 4K029DC08 , 5D006BB02 , 5D006DA03 , 5D006EA03 , 5D006FA09 , 5D112AA05 , 5D112AA24 , 5D112BB05 , 5D112FA04 , 5D112FB06 , 5E049AA04 , 5E049BA06

引用特許：

審査官引用 (8件)

特許第2806228号
スパッタリングターゲットの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-368004 出願人：三井金属鉱業株式会社
スパツタリング用ターゲツト
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-286913 出願人：三菱マテリアル株式会社

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