特許
J-GLOBAL ID：200903076110388855

プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法

発明者：
澤田 康志

澤田 康志 について

, 
田口 典幸

田口 典幸 について


出願人/特許権者：
松下電工株式会社

松下電工株式会社 について


代理人 (2件)： 西川 惠清 ,  森 厚夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-112043
公開番号（公開出願番号）：特開2004-319285
出願日： 2003年04月16日
公開日（公表日）： 2004年11月11日
要約：
【課題】均一なプラズマ処理を行うことができると共に対向する電極の接触を防止して電極の破損を防止することができるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】幅方向に長い複数の電極1、1を対向配置し、対向する電極1、1間にガスを導入すると共に対向する電極1、1間に電圧を印加することにより大気圧近傍の圧力下でプラズマ3を生成する。このプラズマ3を対向する電極1、1の間から吹き出して被処理物4の表面に供給するプラズマ処理装置に関する。対向する電極1、1の間隔を電極1の幅方向の略全長に亘って一定に保つためのギャップ間距離調整機構2を具備する。ギャップ間距離調整機構2により対向する電極1、1の間隔を電極1の幅方向の略全長に亘って一定に保つことができる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
幅方向に長い複数の電極を対向配置し、対向する電極間にガスを導入すると共に対向する電極間に電圧を印加することにより大気圧近傍の圧力下でプラズマを生成し、このプラズマを対向する電極の間から吹き出して被処理物の表面に供給するプラズマ処理装置であって、対向する電極の間隔を電極の幅方向の略全長に亘って一定に保つためのギャップ間距離調整機構を具備して成ることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (5件)：
H05H1/24 ,  B01J19/08 ,  C23C16/513 ,  H01L21/205 ,  H01L21/3065
FI (5件)：
H05H1/24 ,  B01J19/08 E ,  C23C16/513 ,  H01L21/205 ,  H01L21/302 101E
Fターム (38件)：
4G075AA22 ,  4G075AA30 ,  4G075AA61 ,  4G075BA06 ,  4G075BC01 ,  4G075BC04 ,  4G075BC06 ,  4G075BC10 ,  4G075CA15 ,  4G075DA02 ,  4G075EB01 ,  4G075EB42 ,  4G075EC21 ,  4G075EE31 ,  4G075FB02 ,  4G075FC15 ,  4K030FA01 ,  4K030GA04 ,  4K030JA03 ,  4K030KA30 ,  5F004AA01 ,  5F004BA20 ,  5F004BB13 ,  5F004BB24 ,  5F004BD01 ,  5F004CA05 ,  5F004DA01 ,  5F004DA25 ,  5F004DA26 ,  5F004DB26 ,  5F045AA08 ,  5F045AE29 ,  5F045BB02 ,  5F045DP02 ,  5F045DQ16 ,  5F045EH04 ,  5F045EH07 ,  5F045EM10
引用特許：
審査官引用 (6件)
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