特許
J-GLOBAL ID：200903076482676806
光学素子およびその製造方法、ならびに光学素子作製用複製基板およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉浦 正知
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-150817
公開番号（公開出願番号）：特開2008-304637
出願日： 2007年06月06日
公開日（公表日）： 2008年12月18日
要約：
【課題】生産性が高く、かつ、反射防止特性に優れた光学素子およびその製造方法、ならびに光学素子作製用複製基板およびその製造方法を提供する。 【解決手段】光学素子の基体表面には、凸部または凹部からなる構造体が光の波長以下の微細ピッチで多数設けられている。各構造体は、基体表面において複数列の円弧状トラックをなしている共に、隣接する3列の円弧状トラック間において四方格子パターンまたは準四方格子パターンをなしている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
凸部または凹部からなる構造体が微細ピッチで基体表面に多数設けられている光学素子であって、
上記各構造体は、上記基体表面において複数列の円弧状トラックをなしている共に、隣接する3列の上記円弧状トラック間において四方格子パターンまたは準四方格子パターンをなしている
ことを特徴とする光学素子。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (4件)：
2K009AA01
, 2K009AA12
, 2K009BB11
, 2K009DD12
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (3件)
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