特許
J-GLOBAL ID:200903076829291691

トレンチ分離のための傾斜注入

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件): 吉武 賢次 ,  玉真 正美 ,  橘谷 英俊 ,  佐藤 泰和 ,  吉元 弘 ,  川崎 康
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-507102
公開番号(公開出願番号):特表2006-521697
出願日: 2004年03月12日
公開日(公表日): 2006年09月21日
要約:
第1の伝導型の側壁・底部注入領域を第1の伝導型の基板内に配置するトレンチ分離を開示する。側壁・底部注入領域は、第1の伝導型のドーパントの傾斜注入により、又は90度注入により、又は傾斜注入と90度注入の組み合わせにより形成する。トレンチ分離領域に隣接して位置する側壁・底部注入領域は表面漏れと暗電流を減少させる。
請求項(抜粋):
トレンチ分離構造であって: 基板内に形成された誘電性材料と; 前記誘電性材料の少なくとも側壁及び底部に隣接して配置された注入領域とを備える、トレンチ分離構造。
IPC (3件):
H01L 21/76 ,  H01L 27/146 ,  H01L 27/148
FI (4件):
H01L21/76 L ,  H01L21/76 M ,  H01L27/14 A ,  H01L27/14 B
Fターム (38件):
4M118AA05 ,  4M118AA10 ,  4M118AB01 ,  4M118BA10 ,  4M118BA14 ,  4M118CA04 ,  4M118CA07 ,  4M118CB01 ,  4M118CB02 ,  4M118DD04 ,  4M118DD12 ,  4M118EA03 ,  4M118EA06 ,  4M118EA14 ,  4M118EA16 ,  4M118FA06 ,  4M118FA27 ,  4M118FA28 ,  4M118FA33 ,  5F032AA13 ,  5F032AA34 ,  5F032AA44 ,  5F032AA45 ,  5F032AA46 ,  5F032AA50 ,  5F032AA54 ,  5F032AA77 ,  5F032CA05 ,  5F032CA06 ,  5F032CA21 ,  5F032DA02 ,  5F032DA23 ,  5F032DA24 ,  5F032DA25 ,  5F032DA33 ,  5F032DA44 ,  5F032DA77 ,  5F032DA78
引用特許:
審査官引用 (6件)
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