特許
J-GLOBAL ID：200903077105634518
紫外線露光方法、紫外線露光装置、微細構造体の製造方法、及びこれによって製造された微細構造体
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡辺 三彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-142859
公開番号（公開出願番号）：特開2006-317870
出願日： 2005年05月16日
公開日（公表日）： 2006年11月24日
要約：
【課題】 低コストで、高精度な微細構造体を得ることができる方法及び装置を提供すること。【解決手段】 本発明の紫外線露光方法は、紫外線源2が放射する紫外線を1又は複数枚のフォトマスク4を介して材料5bに露光する紫外線露光方法であって、紫外線源2は、複数波長又は連続波長の紫外線を放射するものである。また、材料5bの露光中に、材料5bの表面と平行な平面内における紫外線のエネルギー分布が連続的に変化するように、フォトマスク4を材料5bの表面に対して平行方向に相対的に移動させるものである。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
紫外線源が放射する紫外線を1又は複数枚のフォトマスクを介して材料に露光する紫外線露光方法であって、
前記紫外線源は、複数波長又は連続波長の紫外線を放射するものであることを特徴とする紫外線露光方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (5件)：
2H097AA12
, 2H097AB03
, 2H097CA12
, 2H097GA45
, 2H097LA15
出願人引用 (1件)
審査官引用 (10件)
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