エンハンスト直流プラズマ処理システム

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：山本秀策 , 安村高明 , 森下夏樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-360038
公開番号（公開出願番号）：特開2004-006230
出願日： 2002年12月11日
公開日（公表日）： 2004年01月08日
要約：

【課題】直流プラズマ処理システム内のアーク放電発生を迎えること。【解決手段】プラズマを通して電流が流れるのを即座に停止するように作用するエンハンスト直流プラズマ処理システムは、電圧技術及び又は電圧変化率技術を通してのアーク条件の検出に際し約10%の実質的反転電圧を達成するようにタップ付きインダクタ13及び14が接地9ヘスイッチされる。電圧のこの反転は、初期駆動条件の回復に先立ちプラズマ5内の均一電荷密度の回復を可能にするのに充分に長く維持される。反転電圧を周期的に印加することに係わるアーク放電防止技術は、電源1内のタイマシステムを通して遂行される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

(a)アノードおよびカソードを有する被覆室と、 (b)前記被覆室内の被覆材料を露出するように配置された材料標的と、 (c)直流電力出力と、回路を確立するためにプラズマ負荷に接続される第1リードおよび第2リードとを有する直流電源と、 (d)前記直流電力出力と前記プラズマ負荷との間において前記第1リードに沿って直列に接続されたインダクタと、 (e)前記インダクタの後のある地点において前記第2リードから直接的に前記第1リードに接続されたスイッチとを含み、前記スイッチが、アーク条件のセンシングとは独立して前記直流電力出力を遮断する、エンハンスト直流プラズマ処理システム。

IPC (4件)：

H05H1/24 , B01J19/08 , C23C16/509 , H01L21/31

FI (4件)：

H05H1/24 , B01J19/08 H , C23C16/509 , H01L21/31 C

Fターム (24件)：

4G075AA24 , 4G075AA30 , 4G075AA61 , 4G075BC01 , 4G075BC06 , 4G075DA02 , 4G075EB01 , 4G075EB42 , 4K030FA01 , 4K030HA11 , 4K030JA11 , 4K030JA16 , 4K030JA17 , 4K030JA18 , 4K030KA30 , 4K030KA39 , 4K030KA41 , 4K030LA00 , 5F045AA08 , 5F045AB31 , 5F045BB08 , 5F045DP02 , 5F045DQ10 , 5F045EH00

引用特許：

審査官引用 (8件)

特開昭55-145170
特開昭57-069324
特開昭57-159537

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