特許
J-GLOBAL ID：200903077796678389
表面付着異質物質の除去方法及び除去装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岩見谷 周志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-234037
公開番号（公開出願番号）：特開2003-045842
出願日： 2001年08月01日
公開日（公表日）： 2003年02月14日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 半導体基板、液晶用ガラス基板などの電子デバイス用基板をはじめとする種々の物品の表面付着異質物質(レジスト等)を短時間処理で除去し、清浄化することができる効率のよい表面付着異質物質除去方法および除去装置を提供すること。【解決手段】 異質物質の付着した被処理体1の表面にオゾン可溶性溶剤を適用して液膜を形成させ、該表面と該表面に近接した天板14または他の被処理体との間の層状間隙に高濃度オゾン含有ガスを導入し、前記液膜と接触させて、被処理体表面の付着異質物質を除去することを特徴とする表面付着異質物質の除去方法。
請求項（抜粋）：
異質物質が付着した被処理体の表面に、該表面を十分に濡らすことができるオゾン可溶性溶剤を適用するとともに、これにより形成される液膜に対して、前記被処理体とその表面に近接した天板または他の被処理体との間の層状間隙に導入した高濃度のオゾンを含むガスを接触させて、被処理体の表面に付着した異質物質を除去することを特徴とする表面付着異質物質の除去方法。
IPC (5件)：
H01L 21/304 645
, H01L 21/304 647
, G02F 1/13 101
, G03F 7/42
, H01L 21/027
H01L 21/304 645 Z
, H01L 21/304 647 Z
, G02F 1/13 101
, G03F 7/42
, H01L 21/30 572 B
2H088FA21
, 2H088FA30
, 2H088HA01
, 2H088MA20
, 2H096AA25
, 2H096LA02
, 5F046MA02
, 5F046MA05
, 5F046MA13
, 5F046MA17
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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