特許

J-GLOBAL ID：200903077911313349

プラズマ表面処理装置

発明者： 大参 宏昌 ,  安武 潔 ,  垣内 弘章
出願人/特許権者： 国立大学法人大阪大学
代理人 (1件)： 特許業務法人原謙三国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-320517
公開番号（公開出願番号）：特開2008-135286
出願日： 2006年11月28日
公開日（公表日）： 2008年06月12日
要約：

【課題】被処理物の表面処理の高速化を可能とするプラズマ表面処理装置を提供する。【解決手段】グロー放電によりプラズマを発生さるプラズマ表面処理装置は、放電空間4に供給される少なくとも1種のガスの流路上であって、放電空間4の上流に多孔質体9が設置されており、多孔質体9に液状の作用物質を浸透させた状態で、前記ガスを通過させることによって、前記作用物質のミストが形成され前記ガスに含有されるようになっている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

グロー放電によりプラズマを発生させ、当該プラズマ又はプラズマ中を通過したガスを照射することにより被処理物の表面を処理するプラズマ表面処理装置において、 放電空間に供給される少なくとも1種のガスの流路上であって、当該放電空間の上流に、液状の作用物質をミストとして発生させるための多孔質体が設置されており、当該多孔質体にミストとして発生させる液状の作用物質を浸透させた状態で、前記少なくとも1種のガスを通過させることによって、当該作用物質のミストが形成され当該ガスに含有されるようになっていることを特徴とするプラズマ表面処理装置。

IPC (3件)：

H05H 1/24 ,  B01J 19/08 ,  H01L 21/306

FI (3件)：

H05H1/24 ,  B01J19/08 E ,  H01L21/302 101E

Fターム (29件)：

4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075AA37 ,  4G075BA05 ,  4G075BA06 ,  4G075BA10 ,  4G075BC04 ,  4G075BC06 ,  4G075BD14 ,  4G075CA47 ,  4G075DA18 ,  4G075EB01 ,  4G075EB42 ,  4G075EC21 ,  4G075FA14 ,  4G075FB02 ,  4G075FB03 ,  4G075FB04 ,  4G075FB06 ,  4G075FB12 ,  4K030EA01 ,  4K030FA01 ,  4K030KA30 ,  5F004AA16 ,  5F004BA20 ,  5F004BB11 ,  5F004BB28 ,  5F004BB29 ,  5F004DB19

引用特許：

出願人引用 (2件)

• プラズマ滅菌処理装置及びプラズマ滅菌処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-333134   出願人：松下電工株式会社
• プラズマ表面処理方法、プラズマ生成装置及びプラズマ表面処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-029760   出願人：国立大学法人豊橋技術科学大学, 株式会社栗田製作所, 大研化学工業株式会社