特許
J-GLOBAL ID：200903080155808712
プラズマ表面処理方法、プラズマ生成装置及びプラズマ表面処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
三木 久巳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-029760
公開番号（公開出願番号）：特開2006-216468
出願日： 2005年02月04日
公開日（公表日）： 2006年08月17日
要約：
【目的】 従来のプラズマ処理では困難であった物質固体表面の表面改質を行なうプラズマ生成装置及びプラズマ表面処理装置を提供する。【構成】 電極間にプラズマを発生させるプラズマ発生部と、このプラズマ発生部に原料物質を供給する原料供給部から構成されるプラズマ生成装置において、前記原料物質が化学組成中にOHを有するOH含有物質を少なくとも含み、前記原料供給部が前記OH含有物質をプラズマ発生部に供給するOH含有物質供給手段から構成され、前記プラズマ発生部で生起されるプラズマがOH分子、OHイオン又はこれらから生成される二次粒子を少なくとも含有するOH含有プラズマであるプラズマ生成装置と、このプラズマ生成装置によって生成されたOH含有プラズマにより被処理物表面を処理して所望の表面特性を付与するプラズマ表面処理方法及びプラズマ表面処理装置である。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
化学組成中にOHを有するOH含有物質からなる原料物質をプラズマ発生部に供給し、このプラズマ発生部においてOH分子、OHイオン又はこれらから生成される二次粒子を少なくとも含有するOH含有プラズマを生起し、このOH含有プラズマにより被処理物の表面に表面処理を施すことを特徴とするプラズマ表面処理方法。
IPC (5件)：
H05H 1/24
, B01J 19/08
, B08B 7/00
, H05H 1/32
, H05H 1/48
H05H1/24
, B01J19/08 E
, B08B7/00
, H05H1/32
, H05H1/48
3B116AA46
, 3B116AB01
, 3B116BB22
, 3B116BC01
, 4F070AA19
, 4F070AA23
, 4F070AA24
, 4F070AA28
, 4F070HA06
, 4F070HB14
, 4G075AA23
, 4G075AA27
, 4G075AA30
, 4G075BA05
, 4G075BA06
, 4G075BC06
, 4G075BD14
, 4G075BD16
, 4G075CA17
, 4G075CA47
, 4G075CA62
, 4G075CA63
, 4G075EC21
, 4G075FB12
, 4G075FC20
出願人引用 (2件)
審査官引用 (12件)
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