位置検出装置及び該位置検出装置を用いた半導体露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高梨幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-062004
公開番号（公開出願番号）：特開2000-260699
出願日： 1999年03月09日
公開日（公表日）： 2000年09月22日
要約：

【要約】【課題】半導体製造工程でウエハ上に現われる低コントラスト画像、ノイズ画像、あるいはウエハ加工の際に発生した欠陥を有する画像など、検出の難しい検出マークの画像に対し、安定した検出を行うことのできる位置検出装置及び該位置検出装置を用いた半導体露光装置を提供する事。【解決手段】検出マークのエッジと該エッジの方向を同時に抽出し、予め記憶しているエッジ方向毎にエッジを着目する特徴着目点で構成されるテンプレートとのマッチング検出を行ない、該検出結果に応じて該エッジ抽出のパラメータ、検出判定の閾値を最適化することを特徴とする位置検出装置及び該位置検出装置を用いた半導体露光装置。

請求項（抜粋）：

被検出物上の検出マークの位置を検出する位置検出装置において、該検出マークのエッジを該エッジの延伸方向の情報と共に抽出するエッジ抽出処理を行い、該方向毎に登録されているテンプレートとのマッチングを行って、該検出マークの位置を検出することを特徴とする位置検出装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 9/00

FI (2件)：

H01L 21/30 525 W , G03F 9/00 H

Fターム (12件)：

5F046BA03 , 5F046CC01 , 5F046CC03 , 5F046CC08 , 5F046CC16 , 5F046CD01 , 5F046EA02 , 5F046EB01 , 5F046EB07 , 5F046FA17 , 5F046FC04 , 5F046FC08

引用特許：

審査官引用 (15件)

特開昭62-232504
特開昭61-278138
特開昭57-186328

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