化学気相成長前駆物質

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中村稔 (外9名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-548926
公開番号（公開出願番号）：特表2001-524981
出願日： 1998年05月13日
公開日（公表日）： 2001年12月04日
要約：

【要約】一般式:Zrx(OR)yL2(式中、Rはアルキル基であり;Lはβ-ジケトネート基であり;x=1又は2であり;y=2、4又は6であり;z=1又は2である。)を有する、MOCVD法を用いて酸化ジルコニウムの薄膜又は酸化ジルコニウムを含む薄膜を堆積させるのに用いるジルコニウム前駆物質。

請求項（抜粋）：

下記式を有する、MOCVDに用いるのに適したジルコニウム前駆物質。 Zrx(OR)yLz(式中、Rはアルキル基であり、Lはβ-ジケトネート基であり、x=1又は2であり、y=2、4又は6であり、z=1又は2である。)

IPC (3件)：

C07F 7/00 , C23C 16/18 , H01L 27/105

FI (3件)：

C07F 7/00 A , C23C 16/18 , H01L 27/10 444 C

引用特許：

出願人引用 (7件)

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審査官引用 (7件)

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引用文献：

出願人引用 (1件)

審査官引用 (1件)

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