特許
J-GLOBAL ID：200903078768314742
水質制御システムおよび水質制御方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-149560
公開番号（公開出願番号）：特開平10-339793
出願日： 1997年06月06日
公開日（公表日）： 1998年12月22日
要約：
【要約】【課題】 BWR一次系、PWR二次系等の水を冷却材とするボイラー・システムや冷却系において、腐食生成物の発生、持ち込み、付着等を抑制し、差圧上昇や伝熱面での不純物の濃縮等を防止する水質制御システムおよび方法を提供する。【解決手段】 本発明では、材料のクロム等の含有率を調整し、かつ機械研磨により表面を圧縮応力状態として、均一な防食性皮膜が形成されるようにする。また、材料表面に貴金属等の物質を付与し、腐食電位を安定して制御する。さらに、水中の酸素および水素の濃度を調整し、腐食生成物の発生を抑制する、または酸素の 2〜 5倍モル量の水素を添加して、不溶解性腐食生成物の付着を防止する、あるいはNi、Zn等の金属イオンの制御により、不純物流入時のpΗを緩衝し、防食皮膜を安定化させる方法などが採られる。
請求項（抜粋）：
水と接触する部分の構成材料として、鉄またはクロムの含有率が調整された金属材料が使用され、かつ該金属材料の表面が機械的研磨により圧縮応力が残留した状態とされて、表面のクロム含有率が母材より高められるとともに、均一な防食性皮膜が形成されるように構成されており、さらに前記材料表面に腐食電位を安定して制御する物質が付与された機器および/または配管を備えたことを特徴とする水質制御システム。
IPC (5件)：
G21D 1/00 GDB
, G21B 1/00
, G21C 19/307
, G21D 1/04 GDP
, G21D 3/08
G21D 1/00 GDB W
, G21B 1/00 Z
, G21D 1/04 GDP
, G21D 3/08 G
, G21C 19/30 D
