特許
J-GLOBAL ID:200903078855054730
透明導電性薄膜を有する物品及びその製造方法、並びに薄膜形成装置
発明者:
,
,
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-218074
公開番号(公開出願番号):特開2004-063195
出願日: 2002年07月26日
公開日(公表日): 2004年02月26日
要約:
【課題】優れた透明性を有し、高い導電率で(比抵抗値の低く)、耐湿・耐熱特性に優れ、硬度が高く且つエッチング処理性に優れた透明導電性を有する物品と、その物品の製造する方法及び薄膜形成装置を提供する。【解決手段】大気圧プラズマ放電薄膜形成方法を用いて、基材面をプラズマ状態の薄膜形成ガスに晒して薄膜を形成した後、基材上の薄膜を酸化性ガスに晒し、更に該基材上の薄膜を該プラズマ状態の薄膜形成ガスと該酸化性ガスに交互に晒すことを特徴とする透明導電性薄膜を有する物品の製造方法。【選択図】 図8
請求項(抜粋):
対向電極間(放電空間)を、大気圧もしくはその近傍の圧力とし、放電ガスと薄膜形成ガスを主構成成分とする透明導電性薄膜形成ガスのうちの少なくとも放電ガスを該対向電極間に導入し、高周波電圧を該対向電極間に印加して放電ガスをプラズマ状態とし、続いてプラズマ状態になった薄膜形成ガスに基材を晒して基材上に薄膜を形成する大気圧プラズマ放電薄膜形成方法を用いて透明導電性薄膜を有する物品の製造方法において、基材面を該プラズマ状態の薄膜形成ガスに晒して薄膜を形成した後、基材上の薄膜を酸化性ガスに晒し、更に該基材上の薄膜を該プラズマ状態の薄膜形成ガスと該酸化性ガスに交互に晒すことを特徴とする透明導電性薄膜を有する物品の製造方法。
IPC (5件):
H01B13/00
, B01J19/08
, C23C16/40
, H05B33/14
, H05B33/28
FI (5件):
H01B13/00 503B
, B01J19/08 H
, C23C16/40
, H05B33/14 A
, H05B33/28
Fターム (39件):
3K007AB13
, 3K007AB14
, 3K007AB18
, 3K007CB01
, 3K007DB03
, 3K007FA01
, 4G075AA24
, 4G075BC06
, 4G075CA15
, 4G075CA25
, 4G075CA47
, 4G075CA57
, 4G075DA02
, 4G075EA06
, 4G075EB01
, 4G075EB41
, 4G075EC01
, 4G075EC21
, 4G075ED04
, 4G075ED13
, 4G075EE02
, 4G075FB02
, 4G075FB04
, 4G075FB06
, 4G075FC15
, 4K030AA09
, 4K030AA11
, 4K030AA14
, 4K030AA17
, 4K030CA06
, 4K030CA07
, 4K030CA12
, 4K030FA03
, 4K030GA14
, 4K030JA16
, 4K030JA18
, 4K030KA16
, 5G323BB06
, 5G323BC03
引用特許:
前のページに戻る