特許
J-GLOBAL ID：200903078942693073

磁気記録媒体の製造方法

発明者：
白鳥 聡志

白鳥 聡志 について

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鎌田 芳幸

鎌田 芳幸 について

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櫻井 正敏

櫻井 正敏 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (1件)： 堀口 浩
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-121695
公開番号（公開出願番号）：特開2006-302396
出願日： 2005年04月19日
公開日（公表日）： 2006年11月02日
要約：
【課題】 インプリントによるパターン転写に伴う磁性体加工において、磁性体にダメージを与えることなく簡易に微細化を行うための磁性層加工プロセスを提供する。【解決手段】 シリカガラス、アルキルシロキサンポリマー、アルキルシルセスキオキサンポリマー(MSQ)、水素化シルセスキオキサンポリマー(HSQ)、水素化アルキルシロキサンポリマー(HOSP)から選ばれる1つの材料からなるSOG201を磁性層103の凸部に設け、イオンミリングを行うことにより、SOG201がSiO2102に変質し、磁性層103のエッチングマスクとして機能する。【選択図】 図5
請求項（抜粋）：
磁性層表面に形成された、シリカガラス、アルキルシロキサンポリマー、アルキルシル セスキオキサンポリマー(MSQ)、水素化シルセスキオキサンポリマー(HSQ)、水素化ア ルキルシロキサンポリマー(HOSP)から選ばれる1つの材料からなるSOG膜をパターニン グし、凹凸構造を形成する工程と、 前記SOG膜をさらにエッチングし、前記磁性層表面を露出させる工程と、 露出した前記磁性層表面をイオンミリングによりエッチングすると同時に前記SOG膜 をSiO2に変質させる工程と、 前記エッチングされた磁性層表面を含む前記磁性層表面に埋め込み材を形成する工程と を有することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
IPC (1件)：
G11B 5/855
FI (1件)：
G11B5/855
Fターム (8件)：
5D112AA19 ,  5D112AA20 ,  5D112AA24 ,  5D112FA04 ,  5D112GA02 ,  5D112GA18 ,  5D112GA20 ,  5D112GB05
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (8件)
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