特許
J-GLOBAL ID：200903079070821878

データ処理方法および装置、露光方法および装置、記録媒体

発明者：
木村 茂

木村 茂 について


出願人/特許権者：
富士通株式会社

富士通株式会社 について


代理人 (1件)： 國分 孝悦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-216958
公開番号（公開出願番号）：特開2001-042503
出願日： 1999年07月30日
公開日（公表日）： 2001年02月16日
要約：
【要約】【課題】 改版露光データのデータ量や作成工数を削減することにより、露光データを短時間で作成することができるようにする。【解決手段】 改版設計データ上で修正した部分の位置を指定する修正位置指定部23と、指定された修正部分をデータ処理することにより改版露光データを生成する露光データ生成部25と、改版露光データのヘッダもしくはフッタに修正部分の位置情報を付加する位置情報付加部26とを設け、改版設計データから改版露光データを生成する際には、改版設計データ上で修正した部分の位置を指定し、当該指定された修正部分のみをデータ処理するようにすることにより、改版前の設計データと重複する部分についてはデータ処理を行わなくても済むようにして、データ処理工数と改版露光データのデータ量を削減できるようにする。
請求項（抜粋）：
設計データをデータ処理して露光データを生成するための方法であって、改版設計データから改版露光データを生成する際に、上記改版設計データ上で修正した部分の位置を指定し、当該指定された修正部分のみをデータ処理するようにするとともに、生成された上記改版露光データのヘッダ部もしくはフッタ部に、上記修正部分の位置情報を付加するようにしたことを特徴とするデータ処理方法。
IPC (2件)：
G03F 1/08 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F 1/08 A ,  H01L 21/30 502 G ,  H01L 21/30 502 P
Fターム (6件)：
2H095BA02 ,  2H095BB01 ,  2H095BB33 ,  5F046AA25 ,  5F046CB17 ,  5F046DA11
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (5件)
  • 特開平4-184342
  • 特開平4-310952
  • 電子線描画装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-193149   出願人：株式会社日立製作所, 日立計測エンジニアリング株式会社
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