特許
J-GLOBAL ID：200903079080932309

細胞培養足場および細胞培養方法

発明者：
本津 茂樹

本津 茂樹 について

, 
楠 正暢

楠 正暢 について

, 
西川 博昭

西川 博昭 について


出願人/特許権者：
独立行政法人科学技術振興機構

独立行政法人科学技術振興機構 について


代理人 (1件)： 杉本 勝徳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-127341
公開番号（公開出願番号）：特開2005-278609
出願日： 2004年03月27日
公開日（公表日）： 2005年10月13日
要約：
【課題】細胞を特定の形状に誘導すること、異なる種類の細胞を制御された状態で混在したまま培養することが容易な細胞培養足場およびこの細胞培養足場を用いた細胞培養方法を提供することを目的としている。【解決手段】レーザーアブレーション法等の気相法によって形成された生体親和性を備えた生体親和性材料からなる生体親和性薄膜層を基材の表面に備えていることを特徴としている。【選択図】 図1
IPC (2件)：
C12M3/00 ,  C12N5/06
FI (2件)：
C12M3/00 A ,  C12N5/00 E
Fターム (6件)：
4B029AA02 ,  4B029BB11 ,  4B029CC02 ,  4B029CC11 ,  4B065AA90X ,  4B065BC42
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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引用文献：
出願人引用 (1件)
  • 第25回日本バイオマテリアル学会大会 予稿集, 20031216, 103
審査官引用 (1件)
  • 第25回日本バイオマテリアル学会大会 予稿集, 20031216, 103

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