特許
J-GLOBAL ID：200903079189404280

欠陥観察方法および装置

発明者：
西山 英利

西山 英利 について

, 
本田 敏文

本田 敏文 について

, 
宇都 幸雄

宇都 幸雄 について


出願人/特許権者：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

株式会社日立ハイテクノロジーズ について


代理人 (1件)： 筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-057471
公開番号（公開出願番号）：特開2007-235023
出願日： 2006年03月03日
公開日（公表日）： 2007年09月13日
要約：
【課題】光学式異物検査装置または光学式外観検査装置で検出した欠陥を電子顕微鏡で詳細に観察する方法およびその装置において、観察対象の欠陥を確実に電子顕微鏡等の視野内に入れることができ、かつ、装置規模を小さくできる方法およびその装置を提供する。【解決手段】光学式欠陥検査装置で検出した欠陥を観察する電子顕微鏡5において、欠陥を再検出する光学式顕微鏡6を搭載し、この光学式顕微鏡6の焦点合わせを行う時に、試料1に対して光学式顕微鏡6の照明位置と検出位置を変化させない構成とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
電子顕微鏡で試料の欠陥を観察する方法であって、 前記電子顕微鏡に搭載された光学式顕微鏡を用いて、予め前記試料の欠陥を他の光学式検査装置で検出して得た情報に基づいて前記試料に焦点合わせを行う第1の工程と、 前記光学式顕微鏡で前記欠陥を再検出する第2の工程と、 前記第2の工程で再検出された欠陥の位置情報に基づいて前記欠陥の位置情報を補正する第3の工程と、 前記第3の工程で位置情報を補正された欠陥を前記電子顕微鏡で観察する第4の工程を有し、 前記第1の工程において、前記試料に対して斜方から入射した前記光学式顕微鏡の照明位置と検出位置を変化させないことを特徴とする欠陥観察方法。
IPC (4件)：
H01L 21/66 ,  G01B 15/08 ,  G01N 21/956 ,  G01N 23/225
FI (4件)：
H01L21/66 J ,  G01B15/08 ,  G01N21/956 A ,  G01N23/225
Fターム (79件)：
2F065AA03 ,  2F065AA07 ,  2F065AA17 ,  2F065AA20 ,  2F065AA24 ,  2F065AA49 ,  2F065BB03 ,  2F065CC19 ,  2F065DD02 ,  2F065DD06 ,  2F065FF01 ,  2F065FF04 ,  2F065FF10 ,  2F065FF41 ,  2F065FF67 ,  2F065GG02 ,  2F065GG04 ,  2F065HH14 ,  2F065HH16 ,  2F065HH17 ,  2F065HH18 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ25 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL00 ,  2F065LL06 ,  2F065LL12 ,  2F065LL22 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ29 ,  2F065UU01 ,  2F067AA15 ,  2F067AA45 ,  2F067AA62 ,  2F067BB04 ,  2F067CC17 ,  2F067HH06 ,  2F067JJ05 ,  2F067KK04 ,  2F067KK08 ,  2F067PP12 ,  2F067QQ02 ,  2F067RR12 ,  2G001AA03 ,  2G001BA07 ,  2G001CA03 ,  2G001GA06 ,  2G001HA09 ,  2G001HA13 ,  2G001JA11 ,  2G001KA03 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  2G001PA11 ,  2G051AA51 ,  2G051AB02 ,  2G051AC02 ,  2G051BA01 ,  2G051BA08 ,  2G051BA10 ,  2G051BB01 ,  2G051BB05 ,  2G051DA05 ,  4M106AA01 ,  4M106BA02 ,  4M106BA05 ,  4M106BA07 ,  4M106CA39 ,  4M106CA50 ,  4M106DB04 ,  4M106DB05 ,  4M106DB08 ,  4M106DB13 ,  4M106DB19 ,  4M106DJ05 ,  4M106DJ19 ,  4M106DJ39
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (3件)

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