電子線またはX線用ネガ型レジスト組成物

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小栗昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-301492
公開番号（公開出願番号）：特開2003-107704
出願日： 2001年09月28日
公開日（公表日）： 2003年04月09日
要約：

【要約】【課題】電子線またはX線の使用に対して感度と解像性・レジスト形状の特性を満足する電子線またはX線用ネガ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)電子線またはX線の照射により、酸を発生する化合物、(B)酸により架橋する架橋剤、(C)特定の繰り返し単位を有するアルカリ可溶性樹脂を含有することを特徴とする電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)電子線またはX線の照射により酸を発生する化合物(B)酸により架橋する架橋剤(C)一般式(1)で表される繰り返し単位を有するアルカリ可溶性樹脂を含有することを特徴とする電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物。【化1】式(1)中、R0は、水素原子あるいはメチル基を表す。Lは二価の連結基を表す。R1、R2、R3及びR4は、それぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基、アセトキシ基、水酸基、チオール基又は水素原子を表す。ただし、一般式(1)に示されている水酸基のオルト位が水素原子とはならない。

IPC (2件)：

G03F 7/038 601 , H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/038 601 , H01L 21/30 502 R

Fターム (14件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AD01 , 2H025BE00 , 2H025BE07 , 2H025CB17 , 2H025CB45 , 2H025CC17 , 2H025CC20 , 2H025FA17

引用特許：

審査官引用 (7件)

電子線またはX線用化学増幅系ネガ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-358022 出願人：富士写真フイルム株式会社
ネガ型感放射線性樹脂組成物およびそのパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-137881 出願人：日本化薬株式会社
4-ヒドロキシスチレンとアルキル置換-4-ヒドロキシスチレンとの共重合体
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-194485 出願人：ヘキスト・セラニーズ・コーポレーション, インターナショナルビジネスマシーンズコーポレーション

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