特許
J-GLOBAL ID：200903079444388480
ハーフトーン型位相シフトマスクの欠陥修正方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-315111
公開番号（公開出願番号）：特開2003-121988
出願日： 2001年10月12日
公開日（公表日）： 2003年04月23日
要約：
【要約】【課題】 余剰欠陥の下部にエッチングされずに残ったガラス部分による弊害を比較的単純な方法で排除できるハーフトーン型位相シフトマスクの余剰欠陥修正方法等を提供する。【解決手段】 ハーフトーン型位相シフトマスクにおける半透光膜の余剰欠陥6を修正除去すると同時に、修正部分の下部に位置する透明基板の部分7のみを続けてエッチングする。
請求項（抜粋）：
透明基板上に、少なくとも半透光膜パターンを有し、前記半透光膜パターンが形成されていない透明基板の露出部分を所定の深さエッチングしてなるハーフトーン型位相シフトマスクの欠陥修正方法であって、少なくとも前記半透光膜の余剰欠陥を除去した後に、余剰欠陥除去部分の下部に位置する透明基板を所定の深さエッチングすることを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスクの欠陥修正方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/08 V
, G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
2H095BB03
, 2H095BC05
, 2H095BD32
, 2H095BD35
