特許
J-GLOBAL ID：200903079707568462
レチクルが接する装置のクリーニング方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-335602
公開番号（公開出願番号）：特開2003-142370
出願日： 2001年10月31日
公開日（公表日）： 2003年05月16日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、投影露光装置の露光の際に使用されるレチクルや露光マスクなどのレチクル状物が接する装置のクリーニング方法を提供する。【解決手段】 レチクルまたはレチクル状物のこれらが被洗浄装置と接する部位に、引張弾性率(試験法JIS K7127に準ずる)が0.98〜4900MPaであるクリーニング層が設けられた材料を設け、被洗浄装置内を搬送することを特徴とするレチクルが接する装置のクリーニング方法である。
請求項（抜粋）：
レチクルまたはレチクル状物のこれらが被洗浄装置と接する部位に、引張弾性率(試験法JIS K7127に準ずる)が0.98〜4900MPaであるクリーニング層が設けられた材料を設け、被洗浄装置内を搬送することを特徴とするレチクルが接する装置のクリーニング方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 X
, H01L 21/30 503 G
2H095BB20
, 2H095BB30
, 5F046AA17
, 5F046AA21
, 5F046CC02
