特許
J-GLOBAL ID:200903080201315831

レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西川 繁明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-309903
公開番号(公開出願番号):特開平8-146610
出願日: 1994年11月17日
公開日(公表日): 1996年06月07日
要約:
【要約】【目的】 感度、解像性、耐エッチング性などのレジスト特性に優れていると共に、特にパターン形状に優れたレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。【構成】 〔A〕下記一般式1で表される構造単位と一般式2で表される構造単位を含有する重合体、及び〔B〕活性化放射線に照射されると酸を生成する放射線感応性成分を含むことを特徴とするレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法。【化1】【化2】これらの式中、R1及びR2は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4の置換アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、及びニトロ基から選ばれる。m及びnは、重合体中の各構造単位の割合を表し、全構造単位の割合の合計を1としたとき、0.1≦m≦0.7で、0.1≦n≦0.8である。
請求項(抜粋):
〔A〕下記一般式1で表される構造単位と一般式2で表される構造単位を含有する重合体、及び〔B〕活性化放射線に照射されると酸を生成する放射線感応性成分を含むことを特徴とするレジスト組成物。【化1】【化2】これらの式中、R1及びR2は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4の置換アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、及びニトロ基から選ばれる。m及びnは、重合体中の各構造単位の割合を表し、全構造単位の割合の合計を1としたとき、0.1≦m≦0.7で、0.1≦n≦0.8である。
IPC (4件):
G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027
FI (2件):
H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 561
引用特許:
審査官引用 (8件)
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