特許

J-GLOBAL ID：200903080201315831

レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者： 松野 修吾 ,  杉本 達也 ,  田中 秀行 ,  宮田 修一
出願人/特許権者： 日本ゼオン株式会社 ,  富士通株式会社
代理人 (1件)： 西川 繁明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-309903
公開番号（公開出願番号）：特開平8-146610
出願日： 1994年11月17日
公開日（公表日）： 1996年06月07日
要約：

【要約】【目的】 感度、解像性、耐エッチング性などのレジスト特性に優れていると共に、特にパターン形状に優れたレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。【構成】 〔A〕下記一般式1で表される構造単位と一般式2で表される構造単位を含有する重合体、及び〔B〕活性化放射線に照射されると酸を生成する放射線感応性成分を含むことを特徴とするレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法。【化1】【化2】これらの式中、R1及びR2は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4の置換アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、及びニトロ基から選ばれる。m及びnは、重合体中の各構造単位の割合を表し、全構造単位の割合の合計を1としたとき、0.1≦m≦0.7で、0.1≦n≦0.8である。

請求項（抜粋）：

〔A〕下記一般式1で表される構造単位と一般式2で表される構造単位を含有する重合体、及び〔B〕活性化放射線に照射されると酸を生成する放射線感応性成分を含むことを特徴とするレジスト組成物。【化1】【化2】これらの式中、R1及びR2は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4の置換アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、及びニトロ基から選ばれる。m及びnは、重合体中の各構造単位の割合を表し、全構造単位の割合の合計を1としたとき、0.1≦m≦0.7で、0.1≦n≦0.8である。

IPC (4件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 561

引用特許：

審査官引用 (8件)

• パターン形成材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-275149   出願人：三菱電機株式会社
• 特開平4-269754
  
• 感光性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-271561   出願人：キヤノン株式会社
• 改良型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-266844   出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
• パターン形成材料およびパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-110471   出願人：富士通株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-270332   出願人：日本合成ゴム株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-268112   出願人：日本合成ゴム株式会社
• レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-261054   出願人：日本ゼオン株式会社