特許
J-GLOBAL ID：200903080272117623

積層セラミック素子の剥離方法及び積層セラミック素子の検査方法

発明者：
野口 博司

野口 博司 について

, 
安藤 壽浩

安藤 壽浩 について


出願人/特許権者：
株式会社村田製作所

株式会社村田製作所 について


代理人 (1件)： 西澤 均
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-295327
公開番号（公開出願番号）：特開2001-118745
出願日： 1999年10月18日
公開日（公表日）： 2001年04月27日
要約：
【要約】【課題】 セラミック層や金属内部電極層の厚みが薄い場合にも、積層セラミック素子を所望の界面で確実に剥離させることが可能な積層セラミック素子の剥離方法、及び該剥離方法を適用して積層セラミック素子を効率よく検査することが可能な積層セラミック素子の検査方法を提供する。【解決手段】 電解溶液12に、陽極電極14と、積層セラミック素子3の少なくとも一部を浸漬するとともに、剥離したい特定のセラミック層2aと接する特定の金属内部電極層1aを陰極電極とし、これに陰極用端子13を接続して、電解溶液12に浸漬した陽極電極14と、金属内部電極層(陰極電極)1aに通電することにより、金属内部電極層1aの、セラミック層2aとの界面に存在する金属酸化物を金属に還元することにより、セラミック層2aと金属内部電極層1aの界面で積層セラミック素子3を剥離する。
請求項（抜粋）：
セラミック層と金属内部電極層が交互に積層された構造を有する積層セラミック素子を、特定のセラミック層と、特定の金属内部電極層との界面で剥離する積層セラミック素子の剥離方法であって、前記金属内部電極層を構成する金属の酸化物(金属酸化物)を金属に還元することが可能な電解溶液に、前記積層セラミック素子の少なくとも一部を浸漬し、剥離したい特定のセラミック層と接する特定の金属内部電極層を陰極電極とし、これに陰極用端子を接続して、該陰極用端子から前記金属内部電極層に電圧を印加し、前記特定の金属内部電極層の、前記特定のセラミック層との界面に存在する金属酸化物を金属に還元することにより、積層セラミック素子を特定のセラミック層と特定の金属内部電極層との界面で剥離することを特徴とする積層セラミック素子の剥離方法。
IPC (3件)：
H01G 4/12 364 ,  H01G 4/30 311 ,  H01G 13/00 361
FI (3件)：
H01G 4/12 364 ,  H01G 4/30 311 Z ,  H01G 13/00 361 Z
Fターム (17件)：
5E001AB03 ,  5E001AC09 ,  5E001AE02 ,  5E001AE03 ,  5E001AF06 ,  5E001AH00 ,  5E001AZ00 ,  5E082AA01 ,  5E082AB03 ,  5E082EE23 ,  5E082FG26 ,  5E082FG27 ,  5E082JJ03 ,  5E082LL02 ,  5E082MM31 ,  5E082MM35 ,  5E082MM40
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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