基板処理装置および基板処理方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：川崎実夫 , 稲岡耕作
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-365653
公開番号（公開出願番号）：特開2004-006618
出願日： 2002年12月17日
公開日（公表日）： 2004年01月08日
要約：

【課題】基板のエッチング量を少なくすることができる枚葉式の基板処理装置および基板処理方法を提供する。短時間で基板の表面を洗浄できる枚葉式の基板処理装置および基板処理方法を提供する。【解決手段】この基板処理装置1は、ウエハWを保持して回転するスピンベース10と、スピンベース10に保持されたウエハWに前処理液の液滴を供給する二流体ノズル68と、スピンベース10に保持されたウエハWにエッチング液などの処理液を供給する処理液供給部7とを含んでいる。二流体ノズル68は、アンモニア、過酸化水素水および水(または、アンモニア水およびオゾン水)を含む混合溶液からなる前処理液の液滴を生成して、ウエハWの表面に噴射することができる。処理液供給部7からは、フッ酸および塩酸を含む混合溶液からなるエッチング液を、ウエハWの表面に供給することができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

アンモニアおよび酸化剤を含む前処理液と気体とが混合されて生成された液滴を基板の表面に衝突させる前処理手段と、上記基板の表面にエッチング液を供給するエッチング液供給手段とを含むことを特徴とする基板処理装置。

IPC (1件)：

H01L21/304

FI (2件)：

H01L21/304 643A , H01L21/304 647Z

引用特許：

審査官引用 (9件)

基板又は膜の洗浄方法及び半導体装置の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-059439 出願人：富士通株式会社
基板洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-022851 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
超音波洗浄方法と装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-157177 出願人：富士フイルムマイクロデバイス株式会社, 富士写真フイルム株式会社

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