特許
J-GLOBAL ID:200903080731005221

電場または磁場印加によるマイクロチップ液液界面反応方法とそのためのマイクロチップ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西澤 利夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-136669
公開番号(公開出願番号):特開2002-326963
出願日: 2001年05月07日
公開日(公表日): 2002年11月15日
要約:
【要約】【課題】 マイクロチップ上での液液界面反応をより高度に選択制御可能とする。【解決手段】 マイクロチップ流路における液液界面反応において、液液界面に電場または磁場を印加する。
請求項(抜粋):
マイクロチップ流路における液液界面反応において、液液界面に電場または磁場を印加することを特徴とする電場または磁場印加によるマイクロチップ液液界面反応方法。
IPC (3件):
C07B 61/00 ,  B01J 19/00 321 ,  C07C245/08
FI (3件):
C07B 61/00 D ,  B01J 19/00 321 ,  C07C245/08
Fターム (15件):
4G075AA13 ,  4G075BA10 ,  4G075BD01 ,  4G075BD15 ,  4G075BD22 ,  4G075CA14 ,  4G075CA42 ,  4G075DA02 ,  4G075EB21 ,  4G075EC06 ,  4G075EC21 ,  4H006AA02 ,  4H006AC59 ,  4H006BA91 ,  4H006BC14
引用特許:
審査官引用 (11件)
全件表示

前のページに戻る