基板処理装置とこれを用いた基板処理方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-113660
公開番号（公開出願番号）：特開2000-306809
出願日： 1999年04月21日
公開日（公表日）： 2000年11月02日
要約：

【要約】【課題】薬液を供給する際の供給圧力を限りなく0に近づけることができ、加工精度の向上に寄与する。【解決手段】被処理基板10の表面に現像液等の薬液を供給するための基板処理装置において、被処理基板10を水平に保持する基板保持機構と、薬液槽21から薬液を吐出するための薬液吐出部23を有する薬液供給ぶ20と、この薬液供給部20の薬液吐出部23の直下に吐出部23と隔絶して配置され、且つ薬液輸送面が被処理基板10に対して略水平に配置され、薬液吐出部23から吐出された薬液を該薬液の流速と圧力を落としつつ被処理基板10の表面に輸送する薬液輸送板24と、被処理基板10と薬液輸送板24を相対的に移動させる移動機構とを備えた。

請求項（抜粋）：

被処理基板を略水平に保持する基板保持手段と、薬液槽から薬液を吐出するための薬液吐出部を有する薬液供給手段と、この薬液供給手段の薬液吐出部直下に該吐出部と隔絶して配置され、且つ薬液輸送面が前記被処理基板の主面に対して略平行に配置され、前記薬液吐出部から吐出された薬液を該薬液の流速と圧力を落としつつ前記被処理基板の主面に輸送する薬液輸送手段と、前記被処理基板と薬液輸送手段を相対的に移動させる移動手段とを具備してなることを特徴とする基板処理装置。

IPC (9件)：

H01L 21/027 , B05C 5/00 102 , B05C 5/02 , B05C 9/06 , B05C 11/08 , B05C 11/10 , B05D 1/26 , G03F 7/16 501 , G03F 7/30 501

FI (9件)：

H01L 21/30 569 A , B05C 5/00 102 , B05C 5/02 , B05C 9/06 , B05C 11/08 , B05C 11/10 , B05D 1/26 Z , G03F 7/16 501 , G03F 7/30 501

Fターム (57件)：

2H025AA00 , 2H025AB08 , 2H025AB16 , 2H025EA04 , 2H025EA05 , 2H025FA12 , 2H025FA15 , 2H025FA30 , 2H025FA40 , 2H096AA00 , 2H096AA24 , 2H096AA25 , 2H096AA27 , 2H096CA12 , 2H096CA14 , 2H096FA04 , 2H096GA02 , 2H096GA21 , 2H096GA29 , 2H096HA03 , 2H096HA18 , 2H096HA19 , 2H096JA03 , 2H096JA04 , 4D075AC04 , 4D075AC15 , 4D075AC16 , 4D075AC92 , 4D075AC93 , 4D075AC94 , 4D075CA48 , 4D075DA06 , 4D075DB14 , 4D075DB31 , 4D075DC21 , 4D075EA45 , 4F041AA05 , 4F041AB02 , 4F041BA19 , 4F041CA06 , 4F041CA15 , 4F042AA06 , 4F042BA04 , 4F042BA06 , 4F042BA12 , 4F042BA26 , 4F042CB07 , 4F042CB10 , 4F042CB24 , 4F042CC09 , 4F042DD31 , 4F042DD41 , 4F042DD44 , 4F042EB09 , 4F042EB18 , 5F046LA04 , 5F046LA12

引用特許：

出願人引用 (8件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-271490 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
現像方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-045075 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
パターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-182687 出願人：三菱電機株式会社

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審査官引用 (9件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-271490 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
基板現像装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-181052 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
液処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-188188 出願人：東京エレクトロン株式会社

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