ウェーハの表面状態検出方法および装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：若林忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-022584
公開番号（公開出願番号）：特開平10-221268
出願日： 1997年02月05日
公開日（公表日）： 1998年08月21日
要約：

【要約】【課題】ウェーハ製造ラインに設置することのできる実用的なウェーハの表面状態検出方法および装置を実現すること。【解決手段】ウェーハに対して、ウェーハの裏面からウェーハを透過する測定光をウェーハ表面で全反射条件を満たすように入射し、ウェーハ表面での全反射による近接場漏洩光を発生させ、該近接場漏洩光により発生した散乱光を観察することによりウェーハの表面状態を検出することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

ウェーハに対して、ウェーハの裏面からウェーハを透過する測定光をウェーハ表面で全反射条件を満たすように入射し、ウェーハ表面での全反射による近接場漏洩光を発生させ、該近接場漏洩光により発生した散乱光を観察することによりウェーハの表面状態を検出することを特徴とするウェーハの表面状態検出方法。

IPC (3件)：

G01N 21/88 , G01B 11/30 , H01L 21/66

FI (3件)：

G01N 21/88 E , G01B 11/30 D , H01L 21/66 J

引用特許：

審査官引用 (5件)

光分析用測定器
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-343046 出願人：株式会社ニコン
光学的ニアフィールド顕微鏡
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-000795 出願人：オリンパス光学工業株式会社
結晶欠陥検出装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-312844 出願人：株式会社東芝

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