特許
J-GLOBAL ID：200903081448952806

薄膜複屈折素子及びその製造方法及び製造装置

発明者：
藤井 和憲

藤井 和憲 について


出願人/特許権者：
リコー光学株式会社

リコー光学株式会社 について


代理人 (1件)： 樺山 亨 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-288430
公開番号（公開出願番号）：特開2001-108832
出願日： 1999年10月08日
公開日（公表日）： 2001年04月20日
要約：
【要約】【課題】加工コストが安く、量産が可能であり、斜め蒸着膜の剥離及び白濁・吸収を防止し、密着性と光学特性・耐環境性を向上させた信頼性の高い薄膜複屈折素子を提供することを課題とする。【解決手段】本発明に係る薄膜複屈折素子は、基板40上に斜め方向から蒸発物質を入射させて形成した斜め蒸着膜42を有し、上記斜め蒸着膜42は膜厚及び複屈折量が制御された単層膜構造の蒸着膜であることを特徴としているので、従来の多層構造の斜め蒸着膜に比べて加工コストを低減でき、量産性も確保できる。また、基板表面と斜め蒸着膜の間もしくは斜め蒸着膜上のいずれか一方もしくは両方に密着性、耐環境性及び光学特性を向上させることを目的とする薄膜43を有する構成とすることにより、斜め蒸着膜の剥離及び白濁・吸収を防止し、密着性と光学特性・耐環境性を向上させることができる。
請求項（抜粋）：
基板上に斜め方向から蒸発物質を入射させて形成した斜め蒸着膜を有する薄膜複屈折素子であって、上記斜め蒸着膜は膜厚及び複屈折量が制御された単層膜構造の蒸着膜であることを特徴とする薄膜複屈折素子。
IPC (2件)：
G02B 5/30 ,  C23C 14/24
FI (2件)：
G02B 5/30 ,  C23C 14/24 U
Fターム (17件)：
2H049BA06 ,  2H049BA42 ,  2H049BB03 ,  2H049BB42 ,  2H049BB65 ,  2H049BC01 ,  2H049BC09 ,  2H049BC10 ,  2H049BC21 ,  4K029BC07 ,  4K029BD00 ,  4K029CA03 ,  4K029CA15 ,  4K029EA00 ,  4K029EA01 ,  4K029GA01 ,  4K029JA03
引用特許：
審査官引用 (9件)
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