特許
J-GLOBAL ID:200903081663683522

化学機械研磨における処理の状態把握および制御のためにウエハ表面構造の遷移を検知する装置および方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人明成国際特許事務所
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-580035
公開番号(公開出願番号):特表2005-522024
出願日: 2003年03月26日
公開日(公表日): 2005年07月21日
要約:
【課題】 化学機械研磨における処理の状態把握および制御のためにウエハ表面構造の遷移を検知する装置および方法を提供する。【解決手段】 化学機械研磨装置において、ウエハ搬送プレートに、研磨対象のウエハに非常に近接して位置するセンサを受け入れるための空洞を設ける。研磨パッドとウエハ露出表面との間の接触により生じるエネルギは、非常に短い距離のみで、センサに伝播され、センサによって感知され、ウエハの露出表面の構造と、その構造の遷移との性質に関するデータを提供する。相関方法は、感知されたエネルギを表面構造と遷移とに関連付けるグラフを提供する。相関グラフは、制御のための処理状態データを提供する。
請求項(抜粋):
ウエハの表面構造を検知するシステムであって、 ウエハ取り付け面、および該ウエハ取り付け面から内部へと広がる少なくとも1つの空洞部を有するウエハ搬送ヘッドと、 前記空洞部内に挿入され、前記ウエハ取り付け面を通じて該空洞部内へと伝播されるエネルギに応答するセンサと を備えるシステム。
IPC (5件):
H01L21/304 ,  B24B37/04 ,  B24B41/06 ,  B24B49/02 ,  H01L21/66
FI (5件):
H01L21/304 622S ,  B24B37/04 Z ,  B24B41/06 L ,  B24B49/02 Z ,  H01L21/66 K
Fターム (16件):
3C034AA08 ,  3C034AA13 ,  3C034BB73 ,  3C034BB92 ,  3C034CA02 ,  3C034CB03 ,  3C058AA07 ,  3C058AC02 ,  3C058BA01 ,  3C058BA09 ,  3C058CB03 ,  3C058DA12 ,  3C058DA17 ,  4M106AA01 ,  4M106BA20 ,  4M106CA47
引用特許:
審査官引用 (6件)
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