特許
J-GLOBAL ID：200903082144333936

気化器および成膜装置

発明者：
望月 隆

望月 隆 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 大山 浩明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-283281
公開番号（公開出願番号）：特開2008-103441
出願日： 2006年10月18日
公開日（公表日）： 2008年05月01日
要約：
【課題】気化室へ吐出される液状原料の液滴のサイズをコントロールして,液滴のサイズのばらつきを抑えることにより,液滴を確実に気化する。【解決手段】液状原料が所定の圧力で供給される原料液室410と,原料液室内の液状原料を吐出するための複数の原料吐出ノズル420と,複数の原料吐出ノズルから吐出された液状原料を気化して原料ガスを生成する気化室430と,原料液室の内部空間の容積を周期的に変化させて,液状原料に吐出圧力を加える圧電素子440とを設けた。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
液状原料が所定の圧力で供給される原料液室と, 前記原料液室内の液状原料を吐出するための複数の吐出口と, 前記複数の吐出口から吐出された前記液状原料を気化して原料ガスを生成する気化室と, 前記原料液室の内部空間の容積を周期的に変化させて,前記液状原料に吐出圧力を加える加圧手段と, を備えたことを特徴とする気化器。
IPC (2件)：
H01L 21/31 ,  C23C 16/448
FI (2件)：
H01L21/31 B ,  C23C16/448
Fターム (15件)：
4K030AA11 ,  4K030BA42 ,  4K030CA04 ,  4K030EA01 ,  4K030FA10 ,  4K030KA45 ,  4K030LA15 ,  5F045AA04 ,  5F045AB31 ,  5F045AC07 ,  5F045AC11 ,  5F045AC15 ,  5F045AC16 ,  5F045AC17 ,  5F045EE02
引用特許：
出願人引用 (7件)
  • 特開平3-126872号公報
  • 液体原料用CVD装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-100869   出願人：菱電セミコンダクタシステムエンジニアリング株式会社, 三菱電機株式会社
  • CVD装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-238315   出願人：菱電セミコンダクタシステムエンジニアリング株式会社, 三菱電機株式会社
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審査官引用 (3件)

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