特許
J-GLOBAL ID：200903082182389732
ハーフトーン位相シフトフォトマスク及びハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクス
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
韮澤 弘 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-173042
公開番号（公開出願番号）：特開平7-028224
出願日： 1993年07月13日
公開日（公表日）： 1995年01月31日
要約：
【要約】【目的】 構造が簡単で、製版工程が短縮でき、コストの低下、歩留りの向上が達成でき、従来の製造ラインがそのまま使用できるハーフトーン位相シフオフォトマスク及びそのためのブランクス。【構成】 透明基板803上のハーフトーン位相シフト層806がクロム化合物を主体とする層を少なくとも1層以上含むハーフトーン位相シフトフォトマスク809において、クロム化合物を主体とする層のクロム原子と酸素原子との組成比が、X線光電子分光法によって、100対100乃至300の範囲に含まれていることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
透明基板上のハーフトーン位相シフト層がクロム化合物を主体とする層を少なくとも1層以上含むハーフトーン位相シフトフォトマスクにおいて、前記クロム化合物を主体とする層のクロム原子と酸素原子との組成比が、X線光電子分光法によって、100対100乃至300の範囲に含まれていることを特徴とするハーフトーン位相シフトフォトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
