特許
J-GLOBAL ID：200903082462334020

偏光制御素子とその製造方法、並びに、顕微鏡

発明者：
大出 孝博

大出 孝博 について


出願人/特許権者：
ナノフォトン株式会社

ナノフォトン株式会社 について


代理人 (1件)： 家入 健
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-010193
公開番号（公開出願番号）：特開2007-193025
出願日： 2006年01月18日
公開日（公表日）： 2007年08月02日
要約：
【課題】 所定の偏光状態にすることができる偏光制御素子及びその製造方法、並びにそれを用いたレーザ顕微鏡を提供する。【解決手段】 本発明の一態様にかかる偏光制御素子は、入射位置に応じて入射光の偏光状態を変化させる偏光制御素子であって、放射状に8以上分割された分割領域であって、入射した光の位相をずらして出射する波長板が設けられている分割領域を有し、互いに対向する分割領域に設けられている1対の波長板の光学軸が略直交しているものである。この偏光制御素子に直線偏光を入射させ、レンズで集光することによって、擬似ラディアル偏光又は擬似アジマス偏光を生成することができる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
入射位置に応じて入射光の偏光状態を変化させる偏光制御素子であって、 放射状に8以上分割された分割領域であって、入射した光の位相をずらして出射する波長板がそれぞれ設けられている分割領域を有し、 互いに対向する分割領域に設けられている1対の波長板の光学軸が略直交している偏光制御素子。
IPC (3件)：
G02B 5/30 ,  G02B 1/02 ,  G02B 21/06
FI (3件)：
G02B5/30 ,  G02B1/02 ,  G02B21/06
Fターム (16件)：
2H049BA02 ,  2H049BA06 ,  2H049BA42 ,  2H049BA46 ,  2H049BB01 ,  2H049BB03 ,  2H049BB42 ,  2H049BC01 ,  2H049BC14 ,  2H049BC21 ,  2H052AA01 ,  2H052AA07 ,  2H052AA09 ,  2H052AC13 ,  2H052AC15 ,  2H052AC34
引用特許：
出願人引用 (10件)
全件表示
審査官引用 (8件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM