特許
J-GLOBAL ID：200903082857284366

超純水製造供給装置の抗菌方法及び抗菌装置

発明者：
大澤 公伸

大澤 公伸 について

, 
森田 博志

森田 博志 について


出願人/特許権者：
栗田工業株式会社

栗田工業株式会社 について


代理人 (1件)： 内山 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-219215
公開番号（公開出願番号）：特開2001-038364
出願日： 1999年08月02日
公開日（公表日）： 2001年02月13日
要約：
【要約】【課題】超純水製造供給装置のサブシステムや、端末配管システムを、装置を停止することなく抗菌処理することができる超純水製造供給装置の抗菌方法及び抗菌装置を提供する。【解決手段】超純水製造供給装置における水経路に、溶存酸素濃度が50μg/L以下であり、水素ガスを溶解した、酸化還元電位が負の値を示す超純水を通水することを特徴とする超純水製造供給装置の抗菌方法、並びに、超純水製造装置、超純水製造装置からユースポイントへの超純水送り配管及びユースポイントからの超純水戻り配管の任意の位置の水経路に、水素ガス供給装置を接続してなることを特徴とする超純水製造供給装置の抗菌装置。
請求項（抜粋）：
超純水製造供給装置における水経路に、溶存酸素濃度が50μg/L以下であり、水素ガスを溶解した、酸化還元電位が負の値を示す超純水を通水することを特徴とする超純水製造供給装置の抗菌方法。
IPC (5件)：
C02F 1/50 510 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 540 ,  A61L 2/16 ,  C02F 1/32
FI (5件)：
C02F 1/50 510 B ,  C02F 1/50 531 J ,  C02F 1/50 540 A ,  A61L 2/16 ,  C02F 1/32
Fターム (16件)：
4C058AA20 ,  4C058BB07 ,  4C058CC02 ,  4C058CC04 ,  4C058DD01 ,  4C058DD03 ,  4C058DD07 ,  4C058JJ06 ,  4C058JJ07 ,  4C058KK02 ,  4C058KK46 ,  4D037AA03 ,  4D037AB03 ,  4D037BA18 ,  4D037CA03 ,  4D037CA15
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (8件)
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