特許
J-GLOBAL ID:200903083500401484

電磁波吸収膜

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-391623
公開番号(公開出願番号):特開2002-158486
出願日: 2000年11月17日
公開日(公表日): 2002年05月31日
要約:
【要約】【課題】本発明は,電気比抵抗,飽和磁化と異方性磁界が共に大きく,且つGHz帯域で大きな電磁波の吸収特性を有するナノグラニュラー軟磁性膜からなる電磁波吸収膜を提供することにある.【解決手段】本発明は,一般式M<SB>100-X</SB>I<SB>X</SB>で表され,MはFe,Co及びNiのいずれか1種または2種以上の元素からなる10nm以下の粒径を有する強磁性微粒子が高密度に分布してなり,IはMからなる強磁性微粒子を囲む酸化物,窒化物又はフッ化物等の絶縁物からなる粒界物質であり,当該Iの原子比Xが10<X<50であり,6kG以上の飽和磁化,30Oe以上の異方性磁界及び150μΩcm以上の電気比抵抗を有し,且つGHz帯域での複素透磁率の虚数部の大きさが30以上であるナノグラニュラー軟磁性膜からなることを特徴とする電磁波吸収膜である.
請求項(抜粋):
一般式M<SB>100-X</SB>I<SB>X</SB>で表され,MはFe,Co,及びNiのいずれか1種又は2種以上の元素からなる10nm以下の粒径を有する強磁性微粒子で,高密度に分布してなり,IはMからなる強磁性微粒子を囲む酸化物,窒化物又はフッ化物のいずれか1種又は2種以上の絶縁物からなる粒界物質であり,当該Iの原子比Xが10<X<50で,飽和磁化6kG以上,異方性磁界30Oe以上及び電気比抵抗150μΩcm以上を有し,且つGHz帯域での複素透磁率の虚数部の大きさが30以上であるナノグラニュラー軟磁性膜からなることを特徴とする電磁波吸収膜.
IPC (3件):
H05K 9/00 ,  H01F 1/00 ,  H04B 15/00
FI (3件):
H05K 9/00 M ,  H04B 15/00 ,  H01F 1/00 C
Fターム (14件):
5E040CA13 ,  5E321AA14 ,  5E321BB23 ,  5E321BB25 ,  5E321BB44 ,  5E321CC16 ,  5E321GG07 ,  5E321GG11 ,  5E321GH03 ,  5K052AA02 ,  5K052BB01 ,  5K052DD15 ,  5K052DD27 ,  5K052FF36
引用特許:
審査官引用 (5件)
  • 一軸磁気異方性膜
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-267628   出願人:財団法人電気磁気材料研究所
  • 超微結晶磁性膜からなる電波吸収体
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-338404   出願人:三井金属鉱業株式会社
  • 磁性薄膜及びその製造方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-224438   出願人:株式会社アモルファス・電子デバイス研究所
全件表示

前のページに戻る