特許
J-GLOBAL ID：200903083505520228
常圧プラズマ処理装置及び処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-367376
公開番号（公開出願番号）：特開2001-185398
出願日： 1999年12月24日
公開日（公表日）： 2001年07月06日
要約：
【要約】【課題】1つの処理容器内で連続したプラズマ処理を複数の原料ガス種に対し同時に行うことを可能とし、さらに副反応物等の影響をさけながらプラズマ反応領域を広げる。【解決手段】処理容器内に設置された1つの電極に対し、複数の電極を対向配置して複数組の電極対を設け、それら複数組の電極間に大気圧近傍下で電界を印加することにより放電プラズマを発生させて、各電極間でプラズマ処理を行う。
請求項（抜粋）：
処理容器内に設置された1つの電極に対し、複数の電極を対向配置して複数組の電極対を設け、それら複数組の電極間に大気圧近傍下で電界を印加することにより放電プラズマを発生させて、各電極間でプラズマ処理を行うように構成されていることを特徴とする常圧プラズマ処理装置。
IPC (2件)：
H05H 1/24
, C08J 7/00 306
H05H 1/24
, C08J 7/00 306
4F073AA01
, 4F073BB01
, 4F073CA07
, 4F073CA08
