特許

J-GLOBAL ID：200903083705810310

マイクロ反応装置および触媒反応方法

発明者： 市村 禎二郎 ,  松下 慶寿 ,  村田 逞詮 ,  谷端 一樹 ,  水野 庸司 ,  斉藤 政宏 ,  山崎 俊祐
出願人/特許権者： 国立大学法人東京工業大学 ,  三井造船株式会社
代理人 (1件)： 石井 博樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-030880
公開番号（公開出願番号）：特開2008-194593
出願日： 2007年02月09日
公開日（公表日）： 2008年08月28日
要約：

【課題】反応原料を微細な反応流路に流通させることによって複数の触媒反応を進行させるとともに、その反応を効率よく行うことが可能なマイクロ反応装置を提供する。【解決手段】反応原料を流通させる微細な反応流路を有する反応器と、前記反応流路に形成された触媒層と、を備えたマイクロ反応装置であって、前記触媒層は、複数の触媒である触媒C1、触媒C2、・・・触媒Cn(nは2以上の整数)によって形成され、触媒C1の形成領域、触媒C2の形成領域、・・・触媒Cnの形成領域が、前記反応流路の上流側から、C1、C2、・・・Cnの順番で配列されて設けられていることを特徴とする、マイクロ反応装置を用い、反応原料を反応流路に流通させている間に、触媒C1、触媒C2、・・・触媒Cn(nは2以上の整数)による触媒反応を、該触媒の配列の順番に進行させ、容易に目的生成物を得ることができる。【選択図】図7

請求項（抜粋）：

反応原料を流通させる微細な反応流路を有する反応器と、前記反応流路に形成された触媒層と、を備えたマイクロ反応装置であって、 前記触媒層は、複数の触媒である触媒C1、触媒C2、・・・触媒Cn(nは2以上の整数)によって形成され、 触媒C1の形成領域、触媒C2の形成領域、・・・触媒Cnの形成領域が、前記反応流路の上流側から、C1、C2、・・・Cnの順番で配列されて設けられていることを特徴とする、マイクロ反応装置。

IPC (4件)：

B01J 19/00 ,  B01J 19/24 ,  B81B 1/00 ,  C07B 61/00

FI (4件)：

B01J19/00 321 ,  B01J19/24 A ,  B81B1/00 ,  C07B61/00 C

Fターム (14件)：

4G075AA14 ,  4G075AA61 ,  4G075BA05 ,  4G075BA06 ,  4G075BD07 ,  4G075BD16 ,  4G075CA32 ,  4G075CA54 ,  4G075DA02 ,  4G075FA01 ,  4G075FB04 ,  4G075FB06 ,  4H006AA04 ,  4H006BD81

引用特許：

出願人引用 (1件)

• マイクロリアクター及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-067023   出願人：独立行政法人産業技術総合研究所

審査官引用 (5件)

• 流路構造体、流路構造体の製造方法および燃料電池システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-208130   出願人：株式会社東芝
• 気相反応物質触媒反応用化学反応器及び方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2001-516650   出願人：バッテル・メモリアル・インスティチュート
• マイクロ化学チップ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-242665   出願人：京セラ株式会社
• 接触気相酸化反応
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-306984   出願人：株式会社日本触媒
• マイクロチャンネルチップ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-373370   出願人：富士電機システムズ株式会社