特許
J-GLOBAL ID：200903084023821162
集積回路の自動設計における位相マスク製作方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
矢野 敏雄 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-299823
公開番号（公開出願番号）：特開2001-154336
出願日： 2000年09月29日
公開日（公表日）： 2001年06月08日
要約：
【要約】【課題】 集積回路の自動設計における従来公知の位相マスク製作方法を改善して、個別のポリゴンに位相を最適に対応付けられるようにすること。【解決手段】 各ポリゴンに設計時に位相が対応付けられる、集積回路の自動設計における位相マスクの製作方法において、前記対応付けを少なくとも部分的に間隔グラフの処理中に行うことを特徴とする集積回路の自動設計における位相マスク製作方法。
請求項（抜粋）：
各ポリゴンに設計時に位相が対応付けられる、集積回路の自動設計における位相マスク製作方法において、前記対応付けを少なくとも部分的に間隔グラフの処理中に行うことを特徴とする集積回路の自動設計における位相マスク製作方法。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, G06F 17/50 658
, G06F 17/50
G03F 1/08 A
, G06F 17/50 658 B
, G06F 17/50 658 M
