目標値加工装置、温度調節器、制御プロセス実行システム、プロセス制御方法、目標値加工プログラムおよび記録媒体

発明者： , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：岡田和秀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-018005
公開番号（公開出願番号）：特開2005-276169
出願日： 2005年01月26日
公開日（公表日）： 2005年10月06日
要約：

【課題】温度調節器の機種、機能に適した装置構成の改良を精度高く実施する。【解決手段】制御プロセスの目標値を示す目標値信号が入力される入力部1aと、入力部1aに入力される目標値信号を制御プロセスを実行する調節器3の制御処理に適する信号形状に整形する目標値整形器6と、目標値整形器6で整形される整形目標値信号を、調節器3に出力する出力部1bとを備えて目標値加工装置1を構成することで、調節器3になんら改良を加えることなく高度な制御プロセスを実現する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

制御プロセスの目標値を示す目標値信号が入力される入力部と、前記入力部に入力される前記目標値信号を、前記制御プロセスを実行する調節器の制御処理に適する信号形状に整形する目標値整形器と、前記目標値整形器で整形される整形目標値信号を、前記調節器に出力する出力部と、を備えることを特徴とする目標値加工装置。

IPC (1件)：

G05D23/19

FI (1件)：

G05D23/19 J

Fターム (13件)：

5H323AA40 , 5H323BB02 , 5H323BB05 , 5H323BB12 , 5H323BB13 , 5H323CB02 , 5H323EE02 , 5H323FF01 , 5H323KK07 , 5H323LL01 , 5H323LL02 , 5H323LL22 , 5H323LL29

引用特許：

出願人引用 (1件)

特許公報第2861276号

審査官引用 (10件)

制御装置、温度調節器および熱処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-099003 出願人：オムロン株式会社
自動制御方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-263710 出願人：東芝機械株式会社, 東芝セラミックス株式会社
IMCコントローラ
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-101827 出願人：山武ハネウエル株式会社

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