多目的用途用ガス電界イオン源

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：安齋嘉章
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-279203
公開番号（公開出願番号）：特開2008-153199
出願日： 2007年10月26日
公開日（公表日）： 2008年07月03日
要約：

【課題】集束イオンビーム装置を提供する。【解決手段】装置はイオン発生用のエミッタ領域を備えたエミッタを収容するための閉鎖空間を含むイオンビームカラムと、第1ガスをエミッタ領域に導入するよう適合された第1ガス流入口と、第1ガスとは異なる第2ガスをエミッタ領域に導入するよう適合された第2ガス流入口と、第1ガスの導入と第2ガスの導入との切り替えを行うよう適合された切替ユニットを備える。【選択図】図1a

請求項（抜粋）：

イオン発生用のエミッタ領域を備えたガス電界イオン源エミッタを収容するための閉鎖空間を含むイオンビームカラムと、第1ガスをエミッタ領域に導入するよう適合された第1ガス流入口と、第1ガスとは異なる第2ガスをエミッタ領域に導入するよう適合された第2ガス流入口と、第1ガス又は第2ガスから発生したイオンビームを集束するための対物レンズと、第1ガスの導入と第2ガスの導入との切り替えを行うよう適合された切替ユニットを備える集束イオンビーム装置。

IPC (3件)：

H01J 37/317 , H01J 27/26 , H01J 37/08

FI (3件)：

H01J37/317 D , H01J27/26 , H01J37/08

Fターム (5件)：

5C030DF02 , 5C034DD01 , 5C034DD05 , 5C034DD06 , 5C034DD09

引用特許：

審査官引用 (10件)

加工観察装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-027803 出願人：株式会社日立製作所
荷電粒子発生装置及びその発生方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-021641 出願人：バキュームプロダクツ株式会社
特開平2-152142

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